基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计.pdfVIP

?嘞??????????????设计与研究? 基于接 近式光刻机 的掩模移 动曝光对准 系统设计 木? 佟军 民①②? 胡? 松②? ?①许 昌职业技术学院，河南 许 昌??????；② 中国科学院光 电技术研究所 ，四川 成都 ???????? 摘 要 ：提 出 了一种用 于接 近式 光刻 机 的掩模 移动 曝光 ??? 图象对 准 系统 ，可 以实现 连续 浮雕 微光 学元 件? 的 制作 。 由一次预 对 准和一 次精 对准 实 现基 片 的 安 装定 位 ，先 后 通 过两 次 预 对 准和 两 次 精对 准 实? 现掩 模 的两次 安装 定位 。??? 图象对 准 系统 由两支 完全 相 同且 相 互独 立 的光 路 组成 。各 光 路分 别? 照 明掩模 和 基片 上的 标记后 。清 晰 地 呈现 在 ??? 象面 上 ，采 集卡 将 ??? 采集 到 的 数 据 送入 计 算? 机 。进行算法处理 。给出? 、?、?的偏差 。从而调节掩模和基片的相对位置。该方案可 以获得优于 ?? ?? 的 对准精 度 ，工作 更为 方便 、易 升级 为 自动对 准。? 关键 词 ：掩 模 移动 曝光 技术 ：接近 式光 刻机 ；对 准 系统 ；对 准精 度? 中图分 类 号 ：?????．?? 文献标 识码 ：?? ???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????? ???????????①② ???????②? 。 ??????????????????????????????，??????????????，???；? ??????????????????????????????????????，???????????????????????????，??????????????，????? ????????：???????????????????????????????????????????????????????????????????????