不同污水处理工艺非二氧化碳温室气体的释放_李惠娟.docVIP

——————————————————————————————————————————————— 不同污水处理工艺非二氧化碳温室气体的释放_李惠娟 网络出版时间：2016-12-27 14:37:38 网络出版地址：/kcms/detail/11.1895.X1437.042.html 不同污水处理工艺非二氧化碳温室气体的释放 李惠娟，彭党聪，刘文博，姚倩，卓杨 （西安建筑科技大学环境与市政工程学院， 西安 710055） 摘要：甲烷和氧化亚氮是两种重要的非二氧化碳温室气体。城市污水处理厂是甲烷和氧化亚氮的重要释放源。因此，为探究不同污水处理工艺甲烷和氧化亚氮的释放现状和变化规律，通过浮流式表面集气罩对西安市第三污水处理厂（Orbal氧化沟工艺）和第四污水处理厂（A/A/O工艺）生物处理过程中甲烷和氧化亚氮的排放情况进行测定，比较不同污水处理工艺中非二氧化碳温室气体的释放情况，并以第四污水处理厂为例研究溶解氧、温度对非二氧化碳温室气体释放量的影响。结果表明，西安市第三污水处理厂每m3进水释放甲烷1181mg(以CH4计)、氧化亚氮36.20mg（以N2O计），西安市第四污水处理厂每m3进水甲烷209mg(以CH4计)、氧化亚氮54.64mg（以N2O计）。温度、曝气方式、溶解氧浓度、亚硝酸盐氧化速率和最大产甲烷活性是甲烷和氧化亚氮释放量的重要影响因素。 关键词：甲烷；氧化亚氮；A/A/O；Orbal氧化沟；污水生物处理 中图分类号: 文献标识码: A 文章编号: 0250-3301（2017） DOI:10.13227/j.hjkx.201610122 Non-CO2 LI Hui-juan1, PENG Dang-cong1, LIU Wen-bo1, YAO Qian1, ZHUO Yang1 Abstract: Methane (CH4) and nitrous oxide (N22plant is an important anthropogenic source of CH4 and N24 and N2O 24 per m influent and 36.20 mg N2O per m34 mg per m3 influent and 54.64 mg N2O per m3 influent. Key words: 甲烷（CH4）（其温室效应分别是二氧化碳的25倍和298倍[1]据调查，2000~2009[2]，污水厂进水中总氮负荷中约有7%转化为一氧化氮和氧化亚氮[3]。经过发酵产要在生物脱氮过程中产生，主要发生在硝化阶段和反硝化阶段。在硝化阶段，氧化亚氮主要是来源于羟胺（NH2OH）氧化和硝化菌的反硝化过程，此外硝酰基（NOH）的非生物反应、好氧反硝化菌的存在与异养菌的硝化等几个过程也会造成氧化亚氮的产生[4~7]。氧化亚氮是反硝化阶段的中间产物，其进一步还原受阻时就会造成氧化亚氮的逸出排放，可能的原因有两种：（1）氧化亚氮还原酶（Nos）受到抑制，如pH、溶解氧等因素均会限制其活性，造成氧化亚氮的积累；（2）某些反硝化系统中没有Nos，如荧光假单胞菌（Pseudomonas fluorescens）等，对于这些反硝化菌，其最终产物就是氧化亚氮[8,9]。根据研究，硝化阶段是氧化亚氮产生和释放的主要阶段；在反硝化阶段，只要保证反硝化正常进行的条件，氧化亚氮的产生和释放是可以完全避免的。由于污水处理工艺的不同，如曝气方式、水力停留时间等运行参数不同，脱氮过程中优势微生物种群不同，这就造成了氧化亚氮的产生和释放量的不同。 近年来各国学者对污水处理过成中温室气体产生的相关问题进行了大量研究[10~13]，但这些研究主要集中研究单一污水处理工艺温室气体释放情况，对不同污水处理工艺温室气体排放差异及其原因的研究有限。本研究选取我国污水处理常见工艺——氧化沟工艺（西安市第三污水处理厂，Orbal氧化沟工艺）和A/A/O工艺（西安市第四污收稿日期：2016-10-09；修订日期：2016-11-08 基金项目：陕西省住房城乡科技开发项目（2015-K65） 作者简介：李惠娟（1986~），女， 博士研究生,主要研究方向为废水的生物处理理论与技术，E-mail: lhj270836125@163.com 1 水处理厂，A/A/O工艺）对其甲烷和氧化亚氮的释放量进行测定，比较不同污水生物处理工艺对非二氧化碳温室气体释放的影响，并探讨了溶解氧、温度与温室气体释放量之间的关系，为污水处理厂温室气体产生和释放的研究提供基础资料，对研究污水处理厂温室气体减排措施，