薄膜材料的表征方法-16-2012.ppt

* 二次离子质谱仪的结构示意图如图所示，它装备有Ar+、O2-以及Cs+离子源，其能量大致在2-15keV之间。离子束轰击样品后产生出的二次离子或离子团首先被引入离子能量分析器，其结构原理与前面介绍过的静电式俄歇电子能量分析器类似。 * 四. 薄膜附着力的测量方法 刮剥法：将硬度较高的划针垂直置于薄膜表面，施加载荷对薄膜进行划伤试验的方法来评价薄膜的附着力。 拉伸法：利用黏结或焊接的方法将薄膜结合于拉伸棒的端面上，测量将薄膜从衬底上拉伸下来所需要的载荷的大小。 胶带剥离法：将具有一定粘着力的胶带粘到薄膜表面，在剥离胶带的同时，观察薄膜从衬底上被剥离的难易程度。 * 摩擦法：用布、皮革或橡胶等材料摩擦薄膜表面，以薄膜脱离时所需要的摩擦次数和力的大小推断薄膜附着力的强弱。 超声波法：用超声波的方法造成周围介质发生强力的振动，从而在近距离对薄膜产生破坏效应，根据薄膜发生剥离时的超声波的能量水平推断薄膜的附着力。 离心力法：使薄膜与衬底一起进行高速旋转，在离心力的作用下，使薄膜从衬底上脱开，用旋转的离心力来表征薄膜的附着力。 脉冲激光加热疲劳法：利用薄膜与衬底在脉冲激光作用下周期性热胀冷缩，使薄膜与衬底不断地弯曲变形，从而引起界面疲劳和造成薄膜脱离时单位面积上所吸收的激光能量来表征薄膜的附着力。 * 1、简述X射线衍射用于结构表征的原理，并说明对于薄膜样品衍射强度偏低的解决办法。 2、简述透射电镜的工作原理，并分别说明其两种工作模式及三种衬度的物理意义。 * (2)、透射电子显微像衬度形成 用物镜光栅取透射电子束或衍射电子束之中的一束就可以构成样品的形貌像。这是因为，样品中任何的不均匀性都将反映在其对入射电子束的不同的衍射本领上。对使用透射束成像的情况来讲，空间的不均匀性将使得衍射束的强度随位置而变化，因而透射束的强度也随着发生相应的变化。即不论是透射束还是衍射束，都携带了样品的不同区域对电子衍射能力的信息。将这一电子束成像放大之后投影在荧光屏上，就得到了样品组织的透射像。 电子束成像的方式可以被进一步细分为三种： （1）明场像 即只使用透射电子束，而用光栅档掉所有衍射束的成像方式。 （2）暗场像 透射的电子束被光栅档掉，而用一束衍射束来作为成像光源。 （3）相位衬度 允许两束或多束电子参与成像。 * Au薄膜的高分辨率点阵像，从其中已可以分辨出一个个Au原子的空间排列。 * * * Figure 7. Determination the side surfaces of a nanowire. (a) Low magnification TEM image of a R-Fe2O3 nanowire. (b) Three possible incident electron beam directions for imaging the nanowire, and (c-e) are the corresponding diffraction pattern along the three zone axes. * Figure 12. Orientation relationship between catalyst particle and the grown nanowire. (a) TEM image of Au catalyzed ZnO nanowire, (b) the SAED pattern including both Au catalyst and ZnO nanowire. * 4、X射线衍射方法 特定波长的X射线束与晶体学平面发生相互作用时会发生X射线的衍射，衍射现象发生的条件即是布拉格公式 解决薄膜衍射强度偏低问题的途径可以有以下三条： （1）采用高强度的X射线源。 （2）延长测量时间。 （3）采用掠角衍射技术。 * 不同温度烧结的BST陶瓷的XRD图谱 (a) 1280℃ (b) 1300℃ (c) 1320℃ (d) 1350℃ * 5、低能电子衍射（LEED）和反射式高能电子衍射（RHEED） 由2dsinθ=nλ可知，要想对薄膜的表面进行研究，可以采取两种方法。 (1)、采用波长较长的电子束，对应的电子束入射角和衍射角均比较大。由于这时的电子能量较低，因而电子束对样品表面的穿透深度很小。 (2)、采用波长远小于晶体点阵原子面间距的电子束。这时，对应的电子入射角和衍射角均较小，因而穿透深度也只限于薄膜的表层。 * 6、扫描隧道显微镜（Scanning Tunneling Microscope-STM） 扫描隧道显微镜的基本原理是利用量子理论中的隧道效应。 将原子线度的极细探针和被研究物质的表面作为两个电极，当样品与针尖的距离非常接近时（通