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材料表征技术.ppt

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材料表征技术

绪论(二) 材料的组织结构与性能 显微组织结构的内容:显微化学成分(不同相成分,基体与析出相的成分、偏析等)、晶体结构与晶体缺陷、晶粒大小与形态、相(成分、结构、形态、含量及分布)、界面 传统的显微组织结构与成分分析测试方法 光学显微镜:100nm, 表面形态,难以实现同位微区分析 化学分析:平均成分,不能给出元素分布 X射线衍射与电子显微分析 XRD:晶体结构、晶胞参数、晶体缺陷、相等。 局限性:无法形貌观察与晶体结构分析微观同位结 合;微米、纳米级选择性分析 电子显微镜(EM,Electron Microscope):用高能电子束作光源,用磁场作透镜,高分辨率和高放大倍数 TEM:微观组织形态与晶体结构鉴定(同位分析);10-1nm,106 SEM:表面形貌,1nm, 2x105, 表面的成分分布 EPMA:SEM、EPMA结合,达到微观形貌与化学成分的同位分析 STEM:SEM+TEM双重功能,+EPMA, 组织形貌观察、晶体结构鉴定及化学成分测试三位一体的同位分析 表4-1 X射线衍射分析方法的应用 材料表征 (本课程的)主要内容 本课程内容与要求 X射线衍射、电子显微分析(重点掌握) 其它 X射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、扫描隧道显微镜(STM)、原子力显微镜(AFM)等 要求与目标 正确选择方法、制订方案、分析结果 为以后掌握新方法打基础 课程安排 X射线衍射(XRD)的应用 单晶材料:晶体结构;对称性和取向方位 金属、陶瓷:物相分析(定性、定量) 测定相图或固溶度(定量、晶格常数随固溶度的变化) 多晶试样中晶粒大小、应力和应变情况 T1-1电磁波谱 3. 俄歇(Auger)效应 物质对X射线的吸收方式 1.漫散射式:原子对X射线的漫散射,向四周发散;极少一部分 2. 真吸收:电子在原子内的迁移所引起的, 是一个很大的能量转换过程(见前图)。 这两种吸收构成由质量吸收系数表征的全吸收。 图6—5 按样品的化学成分选靶 (a)Z靶Z样 (b)Z靶=Z样+1 (c)Z靶》Z样 1-6 X射线的安全防护 0.77x10-4C/Kg.W:局部组织损伤、坏死及由此带来的疾患 避免直接暴露于X射线光束:调整 铅屏、铅玻璃及眼镜、手套、围裙 F1-8空间点阵 阵胞与基矢 重复单元、相邻结点间距 T1-5布拉菲点阵 F1-9布拉菲点阵阵胞 F1-10点阵基元晶体结构 F1-11晶面晶向 F1-12六方晶面晶向 F1-13干涉指数 1.倒易点阵的定义 FU1-44倒易点阵参数表达式 3. 倒易矢量及其性质 r*HKL=H a1* +K a2* +L a3* 性质 倒矢量性质推导(1-14) 倒易点阵的建立 --F1-15晶面与倒易矢量 晶面间距 晶面夹角 F1-16晶带零层倒易面 推导衍射方程时,作三点假设: 入射线和衍射线都是平面波。(实际上不需修正) 晶胞中只有一个原子,即简单的晶胞。(结构因子F) 原子的尺寸忽略不计:原子中各电子发出的相干散射是由原子中心点发出的。(原子散射因子) 2)3)假设在以后作修正 图5—1 布拉格实验装置图5—2 布拉格方程的导出 波前渐变成垂直于传播方向 从各原子散射出来的球面波,在特定的方向被加强 X射线衍射与可见光的镜面反射 晶体中所经路程上所有原子散射的结果; 满足条件的特殊角; 衍射线强度比入射线微乎其微; 所关心的是位置而非级数 二 布喇格定律: 布喇格公式: 2 d sin? = n? + 光学反射定律 衍射方向 三 倒易空间与衍射条件(厄瓦尔德图解) 图5·5 衍射矢量三角形——衍射 矢量方程的几何图解 F5.6-5.7 2.5 X射线衍射方法 一、劳埃法 一、劳埃法 分透射法和反射法 特点:每种(hkl)晶面只有一组,?一定, 连续X射线谱中只有一个合适的波长??对反射起作用,在2 ?方向上产生衍射斑点P 劳埃图 图6—15 劳埃法的厄瓦尔德图解 EX-6-2 二、粉晶法 粉末、多晶块状、板状、丝状 利用晶粒的不同取向来改变?,以满足衍射条件 图6—1 德拜法的衍射花样 图5—18 多晶体衍射的厄瓦尔德图解 返回图6—1 多晶体衍射花样 图6—1 德拜法的衍射花样 图5—18 多晶体衍射的厄瓦尔德图解 三、平面底片照相法 三、平面底片照相法 三、平面底片照相法 粉末法的应用: 物相分析 点阵参数测定 应力 织构 晶粒度测定 第三章 X射线衍射线束的强度 图5—9 x射线衍射强度问题的处理过程 图5—10 一个电子对x射线的散射 图5—11 原子中各电子散射波

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