微电子工艺（周琦）chapter8.pdfVIP

第七章 光刻光刻－对准和曝光对准和曝光 微固学院 周琦 zhhouqi@i@uesttc.eddu.cn 1 88.11 引引 言言 主要内容主要内容：：  光刻工艺的对准与曝光  光的特性与光源  对准和曝光设备对准和曝光设备 知识要点：  掌握对准与曝光的基本概念；  掌握投影掩膜版和套准的定义掌握投影掩膜版和套准的定义；；  掌握分辨率的意义及其计算方法；  了解对准和曝光设备。 2 88.11 引引 言言 UV Light HMDS Resist