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MoCVD法制备Ru/HSAG氨合成催化剂
第 30卷第 5期 化学反应工程与工艺 Vbl30.NO5
2014年 l0月 ChemicalReactionEngineeringandTechnology 0ct.2014
文章编号:l001—7631(2014)O5___Jo446__06
MoCVD法制备Ru/HSAG氨合成催化剂
严海宇,黄仕 良,韩文锋,刘化章
(浙江工业大学化学工程学院,浙江 杭 I,I310032)
摘要:采用金属有机物化学气相沉积技术(MOCVD)将羰基钌升华至已浸渍 KNO3和 Ba O3)2的高比表面石
墨(HSAG)Y.,制备了一系列RuH/SAG催化剂。采用x射线衍射、透射电镜 (TEM)和N物理吸附等表征
手段,考察了催化剂的物相和表面结构性质及氨合成催化活性。结果表明,以化学气相沉积技术制备的催化
剂,能使钌均匀地分散于载体中,形成较小的钌粒子,从而得到高活性的氨合成催化剂。羰基钌的加热温度
对升华速率有很大影响,但对沉积效果和催化活性没有明显影响,负载的羰基钌含量对催化剂活性有显著影
响。羰基钌在 130℃开始分解,并在 175℃达到最大分解速率,因此合适的升华温度为 110~130℃。催化
剂的钌负载量 (质量分数)从 3.2%增至 6.O%时,低反应温度 (375℃)下,氨合成活性明显提高。在实验
负载量范围内,TEM 显示钌纳米粒子的粒径变化不大,基本保持在 2am左右。
关键词:氨合成 化学气相沉积 羰基钌 高比表面石墨
中图分类号:TQ426.81 文献标识码 :A
钌基氨合成催化剂是熔铁催化剂之后第二代高效氨合成催化剂。1971年Ozaki和Aika等2【,3]在过
渡金属电子授受(ElectronDonorAcceptor,EDA)型氨合成理论的启发下首次研究了以活性炭为载体,
碱金属钾为助剂的钌基氨合成催化剂,其活性比在相同条件使用的双助剂熔铁催化剂提高了约 10倍,
这引起 了世界各 国学者的重视,日本、俄罗斯、英国、美 国和意大利等 国家的科研人员投入大量的精
力和物力进行钌基催化剂的研究[4,51。1979年英国BP公司研制了一种亲油石墨炭负载的铷.钌氨合成
催化剂[6],于 1993年的在加拿大 Ocelot合成氨工厂试验成功,这标志着合成氨催化剂进入一个新的
阶段。
金属有机物化学气相沉积 (Meta1.OrganicChemicalVapourDeposition,MOCVD)具有分子阶段
沉积,化学计量数可控制等特点[,在半导体工业 中和金属材料加工己有广泛的应用,但在催化剂制
备上应用的报道较少。Moene[8]研究了采用化学气相沉积法将活性金属分散到孔状载体的可能性,并
建立了制备的数学模型。Pophal等9【l0]对MOCVD技术实现纳米TiO2固定化进行了开创性的研究。在
钌基氨合成催化剂制备方面,若 以对羰基化合物前驱体,化学气相沉积法是最有效的方法 。Bielawa
等[1lJ以羰基钌为前驱体,利用化学气相沉积法制备高活性 Ba—Ru/MgO,其氨合成活性高、热稳定性
好且活性组分钌易于回收。BP公司利用羰基钌真空下易升华的特点,将羰基钌升华至石墨化的炭载
体上,制成氨合成催化剂,并实现工业化,但其具体细节未公开。
本研究采用真空金属有机物化学气相沉积技术,将钌的金属有机物羰基钌气化后,负载至高比表
面石墨载体 (HighSuperficialAreaGraphite,HSAG),制成催化剂。采用x射线衍射、N2物理吸附、
收稿 日期:2014—03-13;修订 日期:2014.04—23。
作者简介:严海宇 (1989一),男,硕士研究生;刘化章 (1940一),男,教授,通讯联系人。E-mail:cuihua@zjut.edu.ca。
第30卷第5期 严海宇等.MOCVD法制备Ru/HSAG氨合成催化剂 447
透射 电镜等手段对制备的钌催化剂进行表征,以考察沉积的微观结构、表面性能和氨合成催化活性。
1实验部分
1.1催化剂制备
载体采用由瑞士Timcal公司提供的高
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