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铜表面硅烷自组装膜的制备及其摩擦学特性的研究
2010年 11月 润滑与密封 NOV.2010
第35卷 第 11期 LUBRICATION ENGtNEERING V01.35No.11
DOI:10.3969/j.issn.0254—0150.2010.11.010
铜表面硅烷 自组装膜的制备及其摩擦学特性的研究
刘义芳 万 勇 刘长松
(青岛理工大学机械工程学院 山东青岛266033)
摘要:利用分子 自组装技术在纯铜表面制备十七氟葵基硅烷单分子膜,用x射线光电子能谱对薄膜的表面结构进
行表征,分析 自组装膜的成膜机制,并利用UMT-3摩擦磨损试验机评价薄膜的摩擦磨损性能。接触角测试表明,该薄
膜具有疏水性,其对水的接触角达 117。。摩擦磨损实验结果表明,铜片表面沉积硅烷单分子膜可以大幅度降低铜基片
的摩擦因数,使铜基片表面的摩擦因数由无膜时的0.8降至0.23,且在低负荷下具有很好的耐磨性。
关键词 :硅烷;自组装膜;摩擦特性;铜
中图分类号:TH117.1 文献标识码 :A 文章编号:0254—0150 (2010)11—044—4
PreparationandTribologicalPerformanceof
Self-assembledM onolayeronCopper
LiuYifang WanYong LiuChangsong
(SchoolofMechanicalEngineering,QingdaoTechnologicalUniversity,QingdaoShandong266033,China)
Abstract:Self-assembledmonolayerwasfabricatedoncoppersurfacebymolecularself-assemblyprocess.Thesurface
configurationofmonolayerwasanalyzedusingX—rayphotoelectronspectrometry.andtheformationmechanism ofse~f-a$一
senrbledmonolayerofFASoncopperwasdiscussed.Thetribologicalpropertiesoftheas—preparedthinfilmswereestimated
byUMT-3testsystem.Themonolayerishydrophobicandhaswatercontactangleof1l7。.Thetribologicaltestshowsthat
themonolayerpreparedOilcoppersurfacecanreducethefrictioncoefficientand increaseantiwera performanceofthesub-
strate,especiallyatlowerload.
Keywords:silane;self-assembledmonolayer;frictionchraacteristic;copper
自组装膜 (Serf-assembledMonolayers)是有机功 规模集成电路的互连材料得到应用,然而铜基材料致
能分子通过分子间及其与基体材料间的物理化学作用 命的缺陷在于其耐腐蚀性能及耐磨性能较差,尽管已
而 自发形成的一种热力学稳定、排列规则的界面分子 有文献报道在铜表面构筑组装 自组装膜可有效提高材
组装体系,具有均匀一致、高密度堆积和低缺陷等特 料的耐腐蚀性能 ,然而对于利用 自组装技术改善
性,在润滑、吸附、防腐 、材料合成、电化学 、生物 铜表面摩擦学性能的研究未见文献报道。
与化学传感器 、生物膜等领域中应用广泛 。特别是 本文作者在金属铜表面制备了硅烷 自组装单层分
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