椭偏光测薄膜厚度及折射率.docVIP

云南大学物理实验教学中心 实验报告 课程名称： 近代物理实验 实验项目： 椭偏光测薄膜厚度和折射率 学生姓名： 　　朱江醒 学号： 20051050148 物理科学技术学院物理系2005级数理基础科学专业 成绩 指导教师： 何俊 实验时间： 2007年 10 月 21 日 8 时 30 分至12时 30 分 实验地点： 　　　　　　四合院 实验类型：教学(演示□ 验证□ 综合□ 设计□) 学生科研□ 课外开放□ 测试□ 其它□ 一、实验目的： 1、学会一种较为准确、简便测量透明介质膜厚度和折射率以及金属复折射率的方法； 2、进一步掌握光的偏振、反射、折射、干涉等经典物理光学理论。 二、实验原理： 设有硅片表面上覆盖均匀透明的同性薄膜系统，入射角为，和为薄膜和衬底的折射角，为空气折射率，为薄膜折射率，为衬底复折射率（见图1）。 图1 入射光在两个界面来回反射和折射，总反射光由多束光合成。把光的电矢量和磁矢量各分为两个分量，把光波在入射面上的分量称为P分量或P波，垂直面射入的叫S分量或S波。 定义表征反射波对入射波的相对振幅的变化。 表征经反射系统后Ｐ波和Ｓ波的相位差变化。表示光中Ｐ波和Ｓ波的相位。 由光学知识可得反射系数比为 和表示入射光P波和S波的振幅。和表示反射光P波和S波的振幅。 此式称为椭圆偏振方程，它表示薄膜厚度和折射率与光偏振状态的变化之间的关系。薄膜厚度和折射率的测量归结为反射系数比的测量。 椭圆偏振光法测膜厚和折射率的基本原理就是由实验测得和，再由以上关系定出膜厚和折射率。然而解上述方程是很繁琐的，通常用计算机来完成。在、、、确定后，用计算机编制各种与的关系表，或绘制成～关系曲线。在测得样品的值后，从图中查出对应的和，则由方程 可算出膜厚 为了简化计算，　可使入射的椭圆偏振光的主轴成倾斜（从入射面算起）。 这样 当反射光变成振幅比为的直线偏振光时，有 或 则 可见，只与反射光的振幅比有关，可从检偏器的方位角算出。这时 可见只与反射光的Ｐ波、Ｓ波的相位差有关，可从起偏器的方位角算出。 三、实验仪器： 反射式椭圆偏振仪又称为表面椭偏仪，其基本原理是将激光器发出的光变成椭圆偏振光，投射到样品表面，观测反射光偏振状态的变化（包括振幅和位相），从而定出样品上膜层的厚度和折射率。该仪器采用波长为6328的He-Ne激光器作为单色光源。入射角和反射角均可在内自调由调节，因此可用于改变入射角的某些测量值。 应该注意以下几点： １）起偏器零点调整——将激光光源透过起偏器入射到样品台上的普通玻璃上，使入射角为（布鲁斯特角），转动起片器使光点最弱（消光）。 ２）检器零点调整——将激光管、起偏器和检偏器的光路成一直线，使光透到光屏上，起偏器刻度指示到，再转动检偏器使光点消光。 ３）波片主轴调整——以１）、２）的零点为准，将起偏器转至，检偏器转至，得到消光位置。 2、由于样品表面的反射，在光屏上有时可能出现两个光点，调节消光时，有明暗变化的为主光点，副光点可以不管； 3、波长片一般情况下不允许转动， 以免造成测量误差； 4、仪器应放在光线较暗、湿度低的室内使用。 五、实验内容： （一）样品 本实验待测样品有三种：１、在硅衬底上生长的膜；２、膜；３、表面经过研磨和抛光的钢块。前两种徉品，膜的拆射率均为实数，要求测出折射率及厚度（实验室给出的徉品，膜厚约为儿百埃到一千埃左右）。 对第三种徉品，要求测出其复折射率的实部和虚部。 （二）测试方法要点 测试前首先要凋节祥品台的高度并保持水平（调节方法参照仪器说明书），以确保：祥品上反射的光在观察窗中呈现为完整的圆形亮斑； 当转动样品台时，亮斑不要转动或出现残缺； 当转动Ｐ和Ａ两个角度调节按钮时，对应于消光状态和非消光状态，圆斑亮度要有非常明显的变化。 光电倍增管的高压可取７００—８００Ｖ。 适当择弱电流放大器的灵敏度，反复仔细调节Ｐ和Ａ使光电流达到极小值。注意保护光电倍增管。 当光电流已达到极小值时，先把图３所示的转换旋钮拨至观察窗位置再去读取Ｐ和Ａ的数值。 为了消除因1/4波片不精确造成的Ａ值偏差，应在 和 和的平均值。 测量过程中He-Ne激光电源的输出光功率应该是稳定的，一般He-Ne激光管点亮后需要稳定半小时再进行测量。 （三） 完成实验： 计算金属的复折射率 求薄膜的实折射率和膜厚 实验指导教师签名 学生签名 实验指导老师填写 1、实验记录