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3薄膜的制备4溅射汇
* Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 二、薄膜的物理气相沉积 PVD 1、衬底的准备 2、真空蒸镀法 3、脉冲激光沉积法 4、溅射沉积法 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 4、溅射沉积法 原理：用高能粒子轰击固体表面，固体表面的原子、分子在于这些高能粒子交换动量后，从固体表面飞出来。飞出来的粒子沉积到衬底上形成薄膜。 高能粒子 发现溅射现象：1842 （Grove） 用于制备薄膜：1870 工业应用：1930 溅射出的原子分子沉积到衬底上 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 与蒸镀相比较 优点：可用于高熔点、低蒸气压元素 和化合物材料的薄膜制备。 缺点：溅射的设备复杂； 需要引入惰性气体； 薄膜生长的速度慢； 对于复合材料也有偏析的问题。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 溅射沉积装置的分类： 直流溅射 射频溅射 磁控溅射 离子束溅射 反应溅射 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 1、直流溅射 结构简图： Φ=~10cm L=~10cm Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 溅射的基本理论 1、辉光放电 溅射现象是在辉光放电的实验中发现的，辉光放电是溅射的基础。 辉光放电是在真空度约为1000Pa—1Pa的真空中，在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。 1、由于冷阴极发射的电子只有1eV的能量不能激发气体分子，所以在非常靠近阴极的区域是黑暗的。这就是阿斯顿暗区。 2、电子加速后与气体分子作用会使气体分子激发。这部分激发的气体分子发光称为阴极辉光。 3、继续加速电子，电子会使气体分子电离，产生大量离子和低速的电子。这个区域气体几乎不发光—克鲁克斯暗区。 4、在克鲁克斯暗区产生的低速电子加速后，与气体分子碰撞，使气体分子发光——负辉光。 暗区：离子、电子从电场获取能量的加速区域；辉光区粒子碰撞、复合、电离、激发的区域。 阴极阳极之间的距离至少应比阴极与负辉光区之间的距离长。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 在克鲁克斯暗区周围形成的正离子冲击阴极，产生溅射； Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 2、溅射率：（平均每个正离子从阴极打出的原子或分子的数量） （1）V存在某个閾值V0； （2）溅射率随V增大而增大； （3）当V非常大时，溅射率反而有减小的趋势； Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 3、溅射原子的状态 由于溅射原子是与具有数千电子伏特能量的正离子交换动量而飞溅出来的，因而溅射原子的能量较大，约十~几十电
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