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GDMS和SIMS
二次离子质谱
(SIMS)
SIMS
SIMS提供元素周期表中包括氢在内的每种元素检测限从ppm到ppt的纵向分布分析和
体相分析 。
© Copyright 2009 Evans Analytical Group LLC ~ 2
什么是SIMS
什么是SIMS
• 聚焦离子束（一次离子束, primary beam）
• 样品上一次离子束的扫描 (rastering)
• 产生二次离子（secondary ions, 带电荷的颗粒），只有百分之几的离子化产
率
• 二次离子的收集和分离（Vs. 时间）
– 要检测的离子（掺杂/杂质）
– 材料中的特定离子（基体）
• 将信号转换为浓度vs.深度
溅射的颗粒或二次
一次离子 离子
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SIMS: 一次离子溅射和二次离子的收集
一次离子束:
氧(O + +
2 )或者铯(Cs ) 一次离子束用于SIMS分析，聚焦离
子束的束斑尺寸约为2到20微米。通常一次离子束扫描
区域是边长几百个微米的正方形。
二次离子的检测:
扫描区域中心部位产生的二次离子由EM、FC或离子像收
集。
检测区域
一次离子束 二次离子
侧视图 扫描区域 俯视图
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纵向分布的动态SIMS( Dynamic SIMS)
I A I X I
± ± ± ±
± A± C
B± B ±
±
A A A
X
B B B
C C C
X
±
y A B C
t
i ± ±
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