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硅青铜中杂质元素的光电直读分析
第 34卷第2期 甘 肃 冶 金 Vo1.34 No.2
2012年 4月 GANSU METALLURGY Apr.,2012
文章编号:1672-4461(2012)02-0105-03
硅青铜中杂质元素的光电直读分析
刘 艳
(白银有色集团西北铜加工有限公司,Er肃 白银 730900)
摘 要:利用DV-4光电直读光谱仪分析检测快速、准确、仪器稳定的特点,建立分析程序,绘制工作曲线 ,使硅青铜
中杂质元素的快速分析,结果稳定 ,应用于 日常的分析检测。
关键词:光电直读光谱仪 ;硅青铜中杂质元素;快速分析
中图分类号:0657.3 文献标识码 :A
ImpurityElementsin SiliconBronzesbyPhotoelectric
DirectReadingAnalysis
LIU Yan
(SilverColoredGroupCompanyNorth—westCopperProcessing,Baiyin730900,China)
Abstract:theuseofDV-4photoelectricdirectreadingspectrometeranalysisforthedetectionoffast,accurate,instrument
stabilitycharacteristics,establishmentofanalyticalprocedure,thedrawingworkingcurve,siliconbronzeimpurityelements
intherapidanalysis,theresultisstable,appliedtodailyanalysisdetection.
KeyWords:photoelectricdirectreadingspectrometer;impuritiesinsiliconbronze;rapidanalysis
气净化机。
1 引言
2.2 工作条件
硅青铜是铜合金青铜中的特定牌号,其包括 高纯氩。氩气纯度 ≥99.999%,氩气压力
Qsi3-1,Qsil.3,Qsi0.6-2,其要求分析检测九个元素, 0.25NPa,室温 18~26qC,湿度 75%(表 1)。
由于分析元素多,标准含量低,使得分析检测难度较
大,根据 DV-4光 电直读光谱仪的特点,制作了硅青 表 1 仪器工作条件
铜的工作曲线和分析程序,并进行了比较,满足了硅
青铜的分析要求,检测结果准确可靠,保证了分析检
测的及时、快速、准确,节省了大量的人力和物力。
2 仪器和工作条件 3 实验
2.1 美国跫B设AI备RDD…V4…o00型…光电。+直读光、.,谱、仪,.、,一 3.1样品的选择
,氩 一 Q
si313,其含量成分见表2。
表2 标样含量 (%)
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106 甘 肃 冶 金 第34卷
用车床将块状样
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