钌金属溅射靶材烧结工艺研究.pdfVIP

学兔兔 第 22卷第 1期 粉 末 冶 金 工 业 Vo1．22NO．i 2012年 2月 P0W DER M ETALLURGY INDUSTRY Feb．2012 钌金属溅射靶材烧结工艺研究 罗俊锋，丁照崇。董亭义，何金江 ，王欣平 。江 轩 (北京有色金属研究总院有研亿金新材料股份有限公司，北京 102200) 摘 要：采用热压、放电等离子烧结及直接热压等粉末冶金工艺制备 了钌金属溅射靶材，通过 对致密度、晶粒度与氧含量分析研究了工艺过程对钌金属靶材制备的影响，并对比分析 了三种 方法制备钌靶 的特点。结果表 明：通过工艺优化利用三种方法均能制备 出相对密度达到 99 以上的高密度钌靶；随着制备温度的升高，钌靶氧含量降低 ，晶粒尺寸增大；热压工艺制备周期 最长，钌靶表面有晶粒粗大层 ；放 电等离子烧结与直接热压工艺都具有快速、近净成形的特点。 关键词 ：钌 ；溅射靶材 ；热压烧结；放 电等离子烧结；直接热压 中图分类号： 文献标识码 ：A 文章编号 ：1006—6543(2012)01—0028—04 STUDY OFM ANUFACTURE PROCESSON RU SPUTTERING TARGET BY PM LUOJun—feng，DINGZhao-chong。DONGTing-yi，HEJin-jiang，WANGXin-ping，JIANGXuan (GrikinAdvancedMaterialCo．Ltd，GeneralResearchInstituteforNon—FerrousMetals，Beijing100088，China) Abstract：Inthisstudy，ruthenium sputteringtargetswerefabricatedbythreedifferentpow— dermetallurgicalmethods，HotPressing (HP)，SparkPlasmaSintering (SPS)andDirect HotPressing(DHP)．TheeffectsofmanufacturemethodsonRutargetwereinvestigatedby comparingthedensity，grainsizeandoxygencontent．Basedontheresults，itshowsthatRu targetswithabove99 relativedensitycouldbemadebythesethreemethodswithoptimized manufactureprocess．Theoxygen contentand grain sizeincreasewith increasing tempera— ture．ThemanufacturecyclewithHP isthelongestandthereiscoarsegrainatthesurfaceof thetarget．BothSPSandDHPcanmakeRutargetwithshortcycleandnearnetshape． Keywords：ruthenium ；sputtering target；Hotpressing (HP)；Spark Plasma Sintering (SPS)；DirectHotPressing (DHP) 目前 ，钌金属溅射靶材是垂直磁记录多层膜结 备钌靶 ，虽然致密度高且微观组织均匀 ，但是存在工 构 中重要的材料之一 ，主要作为中间层起到减小上