近紫外区宽带反光镜的膜系优化设计与制备.pdfVIP

第 38卷 第 4期 光 学 仪 器 Vol. 38 No. 4 ， 2016年 8 月 OPTICAL INSTRUMENTS August , 2016 文章编号 ：1005-5630(2016)04-0372-05 近紫外区宽带反光镜的膜系优化设计与制备 姚春龙12 ，宋光辉1 ，雷 鹏 1 ，王银河1 ，张新敏2 (1.沈阳仪表科学研究院有限公司，辽 宁 沈 阳 110043; 2.沈阳工业大学机械工程学院，辽 宁 沈 阳 110870) 摘要 ：依据紫外光学系统中紫外反光镜的使用要求，并结合汞灯发光光谱，提出了只93% @ 300〜 450 nm〇? 为反射率）；Tavg85%@ 500〜 1 000 11111(7^表示平均透过率）的近紫外区宽带 高反射率的设计指标。选用Ta20 5 和 Si02 分别作为高低折射率材料，并采用正交试验法确定 了 Ta20 5 和 Si02 膜料的折射率、消光系数和制备工艺参数。在规整周期性膜系的基础上，利用 膜系设计软件进行优化设计，同时分析了膜层的敏感度，保证了镀制的可重复性。通过曲线测 试和环境试验结果表明，该膜系满足设计使用要求。 关键词：近紫外；超宽带；高反射；膜系设计；折射率 中图分类号 ：0 484. 5 文献标志码：A doi : 10. 3969/j. issn. 1005-5630. 2016. 04. 017 Optimization design and preparation of near ultraviolet broadband reflector coating YAO Chunlong1,2, SONG Guanghui1, L E I Peng1, WANG Yinhe1, ZHANG Xinmin2 (1. Shenyang A cadem y o f In s tru m e n ta tio n Science C o ., L td ., Shenyang 1 1 0 0 4 3 ,C h in a ； 2. School o f M echanical E n g in e erin g, Shenyang U n iv e rs ity o f Techn olo gy,S h en ya ng 1 1 0 8 7 0 ,C hina) Abstract ： According to the operating requirements of ultraviolet reflector in the ultraviolet optical system, and with mercury lamp luminescent spectrum, the near ultraviolet broadband high reflectance design index of _R 93 % (300 〜 450 nm) and Tavg 85 % (500 〜 1 000 nm) are presented The refractive index, extinction coefficient and technological parameters of preparation of Ta2Q and Si〇2 coating materials are determined by orthogonal test, with Ta2Q and Si〇2 as high and low refractive index mat