proe第9章 特征编辑(修正s).ppt

9.15 上机习题 通过不同的复制方式，创建图9.35所示的孔特征。 图9.35 复制的孔特征 * 9.15 本章习题 利用本章所学的知识，绘制如图9.36所示的风扇后盖零件 图9.36 风扇后盖 * * 9.12 特征阵列 9.12.1 特征阵列操控板 9.12.2 尺寸阵列 9.12.3 方向阵列 9.12.4 轴阵列 9.12.5 填充阵列 9.12.6 表阵列 9.12.7 参照阵列 9.12.8 曲线阵列 9.12.1特征阵列操控板 1. 特征阵列 特征阵列是一种高效率的特征复制方式。该方法，可以快速地在模型上创建出多个与原始特征结构相同且位置上排列规则的副本特征。这些副本特征通常被称作是原始特征的一组实例特征 。 原始特征和实例特征间具有父子关系。 1.特征阵列 阵列特征受到阵列参数的影响与控制。包括： 阵列实例的数目 实例间的距离 原始特征的尺寸参数等。 通过改变阵列参数可获得不同的阵列效果。 创建阵列时，可以对一个特征进行阵列，也可以对多个特征进行阵列。 选取【编辑】－【阵列】，或在右工具箱中单击阵列图标按钮 ，或在原始特征右键菜单中选取【阵列】选项，系统打开阵列操控板： 2. 特征阵列操控板 六种阵列方法： 尺寸阵列 方向阵列 轴阵列 表阵列 参照阵列 填充阵列 【尺寸】：单击打开【尺寸】面板以选取驱动尺寸定义尺寸增量。 【表尺寸】：表阵列方式下，单击打开【表尺寸】面板，以创建阵列表。 【参照】：填充阵列方式下，单击后打开【草绘】面板，以 定义填充区域。 【表】：表阵列方式下，单击后打开【表】面板，可添加、移除或编辑阵列表。 【选项】：单击后打开【选项】面板以定义阵列方式。 【选项】面板选项： 【相同】：实例特征与原始特征尺寸相同，放置在同一平面内，且实例特征不能超出放置平面的范围，同时各个特征之间也不允许出现干涉。 【可变】：实例特征与原始特征的尺寸及放置平面均可有变化，但各特征间不允许有干涉。 【一般】：缺省选项。实例特征与原始特征的尺寸及放置平面均可不同，并且特征之间也允许有干涉。 9.12.2 尺寸阵列（后续） 尺寸阵列是常用的特征阵列方法，它通过分别定义驱动尺寸和尺寸增量来创建阵列特征。 根据设计的需要，可选取一个方向的尺寸作为驱动尺寸，创建一维阵列。也可分别选取两个方向的尺寸均作为驱动尺寸，创建二维阵列。当驱动尺寸为角度尺寸时，还可指定角度增量，获得圆周分布的旋转阵列。 zhenlie9-1.prt zhenlie9-1-2.prt 以下使用尺寸阵列方法创建一维阵列（相同阵列方式）和二维阵列（一般阵列方式）。 9.12.2 尺寸阵列（后续） 9.12.2 尺寸阵列（完） 以下使用尺寸阵列方法创建二维旋转阵列。 9.12.3 方向阵列 方向阵列主要用于创建线性阵列。 它可以通过选定阵列的方向参照来确定阵列的方向，从而避免尺寸阵列方法对尺寸的过分依赖。 可作为方向参照的有：平面、基准轴、实体边线、线性曲线和坐标系等。 9.12.3 方向阵列 以下使用方向阵列方法创建二维线性阵列： 9.12.4 轴阵列 轴阵列方式可以创建一维或二维旋转阵列。 创建一维旋转阵列时，只需选取一条轴线作为参照，并设定阵列特征总数及角度尺寸增量即可。 创建二维旋转阵列时，还需要给定沿径向方向的阵列特征总数及尺寸增量。 缺省情况，角度方向上的阵列特征沿逆时针方向均匀分布，径向阵列方向远离轴线方向。需要改变阵列方向，可在操控板中，选取调整阵列方向图标按钮，或在尺寸增量文本框中输入负值。 9.12.4 轴阵列 以下使用轴阵列方法分别创建一维旋转阵列、二维旋转阵列。 9.12.4 轴阵列 图 零件模型 * 图 设定轴阵列参数 图 创建的轴阵列特征 9.12.5 填充阵列 使用填充阵列方式可以在选定的区域内，按照选定的填充格式（栅格模板）和填充参数（阵列实例间距、阵列实例与填充边界的最小距离、栅格绕原点的旋转角度等）来创建阵列特征。 系统提供的填充格式 或栅格模板有六种： 正方形、菱形、 三角形、圆、 曲线和螺旋。 9.12.5 填充阵列 以下使用填充阵列方法分别创建圆形填充阵列和曲线填充阵列 ： 9.12.6 表阵列 表阵列是一种灵活的阵列方式，可以创建位置分布不规则的复杂阵列特征。 创建时，首先需创建一个可编辑的阵列表，表中包含了创建阵列实例特征的尺寸参数，然后编辑阵列表，为每个实例特征指定尺寸参数来创建阵列特征。 还可以为一个阵列建立多个阵列表。然后，在操控板【活动表】