晶体硅光伏组件生产工艺研究.docxVIP

太阳库专注为您建光伏电站 / 　　晶体硅光伏组件生产工艺研究 　　一 清洗 　　清洗的目的： 　　1 对硅片组件表面受到机械损伤的部分进行有效清理。 　　2 为了提高太阳电池片对光能的吸收和利用，通过硅片表面的凹凸处理提高光线在太阳电池片上的折射频次，实现光能的高度吸收利用。 　　3 对硅片表面存在的化学污染物如氧化物、硅酸钠、油渍和一些金属离子杂质进行清理。 　　化学清理原理： 　　HF清理硅片氧化表层： 　　HCl清除金属杂质：盐酸对金属杂质的清理主要通过其中含有的氯离子对溶解片子表层的铝、镁等活泼金属和其它氧化物，具有酸和络合剂的双重作用。不过对于金、银、铜类不活泼金属，盐酸的溶解清理效果并不理想。 　　安全提示：NaOH、HCl、HF都具有较强的腐蚀性，任何液态、气态、固态形式的存在都会对人身体造成严重伤害，因此需要操作人员做必要的安全防护，配备专业的防护服装设备。一旦出现意外情况，要用纯水冲洗半个小时，紧急送医院就医。 　　二 制绒 　　制绒的目的：通过硅片表层的改造减少光的折射，增强短路电流(Isc)，从而大幅提高电池的光电转化利用效率。 　　制绒的原理 　　不同晶体硅片在低浓度碱溶液的作用下具有不同的腐蚀速率，这种各向异性腐蚀特性能够在硅片表面形成密集的椎体分布现象，既硅片的表面织构化。这些椎体的四面是由〈111〉面包围而成。 　　反应为：Si+2NaOH+H2O