薄膜光学与技术绪论题稿.ppt

★ 2. 新技术— 成膜技术 1. 电子束蒸发 --- 电子束蒸发仍是主流 2. IAD技术应用已普遍化--- Kaufman源; Hall源 3. 溅射技术---高质量、高难度、高效率的光学薄膜制备的趋势 4. 原子层淀积 (Atomic layer deposition)---1970’芬兰科学家提出,在半导体工业广为应用. 主要用三甲基铝Al(CH3)3 和 OH 反应制备Al2O3膜。 脉入 反应物A 清除多余 反应物 脉入 反应物B 清除多余 反应物，生成单原子层 HfCl4 H2O HfCl4 + H2O = HfO2 + 4Cl4 原子层淀积 (Atomic layer deposition) 单原子层淀积过程 蛾眼结构增透膜 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 Methods to perform AR properties interference coatings effective media neff2 neff1 neff3 nsub period thickness period ? ?/nsub thickness ? /2 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 蛾眼结构增透膜 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 波状结构薄膜光子晶体 ★ 3. 微器件---