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奥氏体等温淬火球铁PVD-TiN涂层的特性:球数和奥氏体等温淬火温度的影响.pdfVIP

奥氏体等温淬火球铁PVD-TiN涂层的特性:球数和奥氏体等温淬火温度的影响.pdf

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奥氏体等温淬火球铁PVD-TiN涂层的特性:球数和奥氏体等温淬火温度的影响

现 代 冶 金 2014年第 1期 奥氏体等温淬火球铁 PVD—TiN涂层的特性 : 球数和奥氏体等温淬火温度的影响 (阿根廷)DiegoCOLOMBO 摘 要:研究了石墨球数为490—1100个 /mm 在280℃和360℃奥氏体等温淬火的ADI基体上沉积PVD—TiN 涂层,在300℃用电弧离子喷涂工艺进行沉积,评价了基体显微组织对涂层特性的影响以及沉积过程对奥氏体显 微组织产生变化的可能性,检测了试样中存在的相 、涂层沉积方向、沉积膜的厚度、硬度 、杨氏模量 、表面形貌和涂 层粘着性,检测了沉积前后奥氏体基体的金相特性和残余奥氏体数量。 检测结果表明,PVD—TiN涂层 (111)面的初始方向与表面平行 ,膜的厚度约2 m,基体特性影响努普硬度,其 值在 1700—2100HK0 之间,显微硬度值接近25GPa,杨氏模量有些分散 (323—336GPa)。表面形貌取决于基体 显微组织和表面制备方法及所用沉积工艺,按照 Rockwell—C粘着试验 ,涂层的粘着强度级别为 HF1一HF2,并且 即不受不同基体之间硬度差异的影响也不受石墨球数变化的影响。涂镀后ADI的显微组织变化可以忽略,残余奥 氏体的数量稍有减少。 关键词:奥氏体等温淬火球墨铸铁;物理蒸气沉积;TiN涂层;粘着性 与其它表面处理相 比,由于在相对低的温度 1 前言 (200~500℃)条件下进行,用物理气相沉积(PVD) 奥氏体等温淬火球铁 (ADI)在其不同级别 中 薄而硬的膜是优化热处理部件有效的途径。研究了 (ASTM897—90标准的 1—5),通过适当调整化学 用一般石墨球数的ADI在 360℃奥氏体等温淬火 成分和热处理参数可达到的机械性能范围很宽,在 温度下以单层或多层涂镀不同材料,认为可以改善 制造机械部件方面打开了新的用途,与高强度铸钢 机械性能和耐蚀性,用于所有研究的温度不超过 相比有很多优点,如低成本和低密度 ,在零件设计 中 300oC,证实了ADI的显微组织没有变化。 灵活性大,有相似的疲劳性能及拉伸性能和耐磨性。 涂层特性主要取决于基体特性 (从清理到沉 近十年来随着铸造工艺的进步,在金属铸造工 积、显微组织、表面形貌、机械性能和与涂层的物理 业中铸件可达到小于5mm厚度的壁厚,再者,对于 化学兼容型)和所用PVD工艺及工艺参数 (压力、气 一 般壁厚的铸件,随冷却速度的提高导致石墨球数 流进入方向和分布、气流密度、偏置电压和基体温 的剧增和显微组织细化,使机械性能得到强化。 度)。 显微组织由细的针状铁素体和高含碳量的亚稳 在本研究中,PVD—TiN涂层沉积在 280 和 奥氏体组成,奥氏体在室温下残余是因为贝氏体铁 360oC等温淬火的不同球数的ADI基体上,用电弧 素体的生长使邻近奥氏体的局部碳含量提高,使马 离子镀涂镀工艺,对这种材料使用工业反应器和选 氏体开始温度 (Ms)降低到室温 以下的缘故。由于 择特殊工艺参数,研究了基体显微组织对涂层特性 有合适的温度和充分的转变时间,奥氏体壳在较低 的影响,评价了涂镀过程引起奥氏体显微组织 自身 能量状态下转变为铁素体和渗碳体混合基体,从而 变化的可能性。 恶化 了材料的机械性能。 2 试验过程 工程材料的抗磨性能主要取决于其表面性能这 一 点已被广泛认可,材料的硬度、表面粗糙度、摩擦 2.1 基体材料和试样制备 系

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