电镀电源及对电镀工艺过程的影响.pdfVIP

电镀 源及对 镀工艺过程的影响 电镀 源及对 镀工艺过程的影响 青岛大学 谢洪波 张来祥马学奎（0532 电镀属于电解加工过程。不言而喻， 源的性能、类型、特征等因素必将对电镀工 艺过程产生重要影响。特别是在现代 镀技术飞速发展的今天，电镀 源更具有重要地位。 因此，了解 镀电源对电镀工艺过程的影响很有必要。本文就 镀电源和低纹波系数整流 源在电镀行业中的应用所取得的一些经验和教 加以介绍，以期让电镀界同仁在选择整流 源、解决电镀故障、提高电镀质量方面引起足够重视。 1 整流器的基本原理及类型 1.1 传统硅整流器 硅整流器使用历史长，技术成熟，目前是整流器主流产品。 1.1.1 整流 路。工业生产中一般采用三相调压器调压，50Hz 三相工频变压器降压的 普通硅整流器。各种整流 路获得的均是脉动直流 ，不是纯直流，或多或少地含有交流成 分。为了比较脉动成份的多少，可用纹波系数来表示，其含义为交流成份在直流成分中占的 百分比，其数值越小，交流成份越少，越接近纯直流。 各种整流 路的波动系数不同。其由大到小的次序为：三相半波整流、三相全波桥式整 流或带平衡 器的六相双反星形整流。其中后者工作时整流元件并联导通，波形最为平滑， 整流效率较高，工作也较为可靠，时最为常用的一种。 为了获得低纹波输出，则必须采用滤波或其它特殊措施。利用 容、 感贮能元件进行 滤波，是将脉动直流转变为较为平滑的直流的常用措施。但实际生产中，除试验用的小型整 流器之外，工业生产基本上不进行滤波。特殊情况可使用大 感。 容在低 压、大电流情 况下不适用于滤波。 容滤波，对工频整流只适合于非常小功率的整流 源。例如输出10A 的单相全波整流器，要达到低纹波输出，其滤波 容要达 0.1F 以上。随着频率的提高，所 需 容量减小。 可控硅利用改变可控硅管导通角来调整输出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅 管输出的是间断脉冲波，其纹波系数的受导通角控制，输出纹波系数大于普通硅整流 路。 特别是在使用电流低于额定电流较大的情况下，输出波形脉动系数更大。 1.1.2．整流元件类型 整流元件即通常所说的二极管。由于整流器所有的输出电流都要经过整流元件，因此， 可以说是整流器的心脏。整流元件分为硅整流元件和可控硅整流元件二种。镀铬整流器主要 使用硅整流元件。虽然可控硅技术已有了长足的发展，且在电镀上应用也日趋增多，但笔者 还是推荐使用硅整流器。其原因主要是波形问题。可控硅整流是采用控制整流元件导通时间 与截 时间长短来控制电流的。整流器满负荷使用时波形好。但输出电流较小时 流波形变 差。电流越小，波形越差。而硅整流器输出 流大小对波形几乎无影响。 1.2 开关电源 目前一种新型电镀电源设备-开关电源正在发展之中。它兼有硅整流器的波形平滑性优点 及可控硅整流器的调压方便的优点，电流效率最高 （可达90% 以上），体积最小，是大有前 途的整流器。目前制造技术已解决了功率问题，数千安培至上万安培的大功率开关电源已进 入生产实用阶段。目前市售的开关 源 路属于 “硬开关”，由于模块在电流通断过程的储 能释放问题，虽然较硅整流器、可控硅整流器电流效率都高，但仍有较大的 “开关”损耗， 并造成了对 子模块的冲击，使用过程设备故障率也较高。 最为先进的开关 源是 “软开关”电源 路。工作过程 子模块通断换向点正好处于 电流为零的瞬间，因此无“开关”损耗及能量冲击，今一步提高了整流效率，将低了故障率。 但这类开关电源的技术难度较大，成本也较 “硬开关”高，国内生产“软开关” 镀电源的 为数不多。可喜的是我市开关 源的生产技术已步入国内的前列。青岛艾特 子技术有限公 司最新研发的XBD 系列谐振变频 镀电源，采用西安交大的谐振软开关核心技术，生产的 电镀电源产品具有更高的电流效率及可靠性。该产品目前已批量生产，投入销售。从而为广 大电镀用户提供了更大的开关电源选择余地。 开关电源其频率已达音频，通过滤波实现低纹波输出更为简便易行。而且稳流、稳压等 功能更易实现。因此，开关 源，特别是使用“软开关”电源 路的开关 源是今后发展的 方向。 1.3 脉冲电源设备 随着 力 子科学技术的发展，电镀整流器正在由单一功能向多功能发展。由于脉冲 电源主要是由嵌入式单片计算机等进行控制，因此，除实现脉冲输出之外，一般具备多种控 制功能。 1.