掺Mo对NiSi薄膜热稳定性的改善-物理学报.PDF

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 .’ . ##. . ， ， ， :+A ,.’ 0+ ,. *@‘ ##. （ ） ###()#]##.].’ #. ].#’ ZNMZ OU^2_NZ 2_0_NZ ###. NB1D , OB‘\ , 2+K , 掺! 对#$%$ 薄膜热稳定性的改善 ! 黄 伟 张利春 高玉芝 金海岩 （北京大学微电子研究院，北京 ##$%） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） ##’ % ( ##’ ) 报导了在镍薄膜中掺入少量 提高了镍硅化物的热稳定性 结果表明，经 — 快速热退火形成的 *+ , -.# $##/ 01 （ ） 硅化物薄膜电阻值较低，约为 （ ） 分析表明薄膜中只存在 相，而没有 生成 由吉布斯 *+ 21 ,’ 3 , 456 0121 0121 , ! ! 自由能理论分析表明在 薄膜中掺人 对改善 硅化物热稳定性起到至关重要的作用 经 — 快 01 . ,) 7 *+ 01 , -.# $##/ 速热退火后的 （ ） 肖特基二极管电学特性良好，势垒高度 为 — ，理想因子接近于 ，更进一 01 *+ 213 21 ! # , -’ # , --9: 8 步证明掺少量的 能够改善 薄膜的热稳定性 *+ 0121 , 关键词：镍硅化物，快速热退火， 射线衍射分析，卢瑟福背散射 ; ： ， ， ， ’(( %.# -$.. %$# %$(# R . 时，通入 气后分别溅射 # O@ Z[ .D? 013 D? *+3 金属夹层结构 对样品在