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偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应-中国科学院
第18 卷 第3 期 化 学 物 理 学 报 Vol. 18 ,No. 3
2005 年6 月 CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS June 2005
1003-77 13/ 2005/ 03-406-5
偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应*
**
舒勇华, 刘宏立, 樊 菁 , 崔季平
(中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室,北京 100080 )
摘 要: 研究了偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附和化学反应情况. 首先用液相或气相偏二甲肼沾染氟化镁涂
层表面,再将涂层置于真空环境足够长时间,然后通过对比沾染前、后涂层表面的红外吸收光谱、X 射线光电子
能谱和漫反射率,了解涂层表面的吸附状况和性能变化. 实验表明,覆盖于氟化镁涂层表面的偏二甲肼液膜分子,
在真空环境下充分脱附的时间约为2 h ,充分脱附后的涂层表面只有单层化学吸附存在,其质量密度约为
27 ng/ cm2 ,实验后氟化镁涂层表面的漫反射率下降了10% ~ 15% ;在- 10 ℃ 的偏二甲肼饱和蒸气中沾染10 min
后,氟化镁涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小,红外吸收光谱也没有偏二甲肼特征峰出现.
关键词: 偏二甲肼;氟化镁涂层;表面吸收光谱;漫反射率
中图分类号:V211. 73 文献标识码:A
Absorption and Reactions of 1 ,1-dimethyl-hydrazine on
the Surface of Magnesium Fluoride Coating *
Shu Yonghua , Liu Hongli , Fan Jing **, Cui Jiping
(Key Laboratory of High Temp erature Gas Dynamics ,Institute of Mechanics ,Chinese Academy of Sciences ,Beij ing 100080 )
Abstract The absorption and chemical reactions of 1,1-dimethyl-hydrazine (C H N )on the surface of
2 8 2
magnesium fluoride(MgF2 )coating was studied. The coating surface is firstly contaminated by liquid or gaseous
C H N ,and then it is placed into a vacuum environment for a long period. Contrasting the infrared absorption
2 8 2
spectra ,X-ray photoelectron energy spectra and diffusive reflectivity of MgF2 coating surfaces before and after
exper
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