真空镀膜的三种形式.PDF

真空镀膜的三种形式 真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀 （也是金属反射膜的三种镀膜方式）。 1、蒸发镀膜(evaporation):通过在真空中加热蒸发某种物质使其产生金属蒸气沉积 （凝聚）在固体表面成为薄膜，蒸发物质如 金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间 （或决定于装料量），并与源和基 片的距离有关。 蒸发源1:电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状，通以电流加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质，电阻加热源 主要用于蒸发Cd、Pb、Ag 、Al 、Cu、Cr、Au 、Ni 等材料。 蒸发源2:高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。 蒸发源3: 电子束加热源：适用于蒸发温度较高 （不低于2000℃）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。为了沉积高纯单晶 膜层，可采用分子束外延方法，分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。 2、溅射镀膜(sputtering):用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在