微电子光致抗蚀剂的发展及应用-化学进展.PDF

PＲOGＲESS IN CHEMIST ＲY 化 学 进 展 DO I :10. 7536 / PC140729 微 电子光致抗蚀剂 的发展及应用* 魏 玮1 刘敬成1 李 虎1 穆 启道2 刘 晓亚1＊＊ (1． 江 南大学化学与材料工程学院 无锡 2 14 122 ; 2 ． 苏州瑞 红 电子化学品有 限公司 苏州 2 15 124 ) ， ， ， 摘 要 光致抗蚀 剂 又称 光刻胶 是微 电子工业 中制 作 大 规 模 和 超 大 规 模 集 成 电路 不 可 或 缺 的核心材料 因其在 国 民经济和 国防建 设 中具有 战略地位 而 备受研究 者 关注 。本文梳 理了光致抗蚀 剂从 早 期 的聚 乙烯醇 、 - 、 G (436 -nm ) I (365 -nm ) - ， 肉桂酸酯 环 化橡胶 叠氮 化合物 近 紫外 线 和 线 酚 醛 树脂 重 氮 萘 醌类 光致 抗 蚀 剂 (248-nm 193 -nm) 、 (157 -nm ) ， (13. 5 -nm ) 、 、 、 到深 紫外 和 真 空紫外 光致 抗 蚀 剂 再 到 极 紫 外 电子束 纳米 压印 、 ， 。 嵌段共 聚物 自组装 扫描探 针 等 下一代 光刻技术用 光致抗蚀 剂 的发展脉络 综述 了其研究进 展 重点对 深 紫 ， 、 、 外化学增 幅型光致抗蚀 剂体 系进 行 了总结 包括 主 体成 膜 树脂 光 产 酸 剂以 及溶 解 抑 制 剂 碱 性 化 合 物等 添 ， 。 加剂 并介 绍 了下一代 光刻技术用 光致抗蚀 剂 的最 新研究 成 果 最 后 对 光致 抗 蚀 剂未来 的发展 前景 和 方 向 进 行 了展望 。 关键词 光致抗蚀 剂 G 线 I 线 深 紫外 极紫外 电子束 纳米压印 嵌段共 聚物 自组装 中图分类号 :O63 ; TQ32 文献标识码 : A 文章编号 : 1005 -28 1X (20 14 ) 11-1867 -22