硅基光电子学中的SOI材料-激光与红外.PDF

第４１卷　 第９期 　 　　　　　　　　　　　　　　激 光 与 红 外 Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ．９ 　 ２０１１年９月　 　 　 　　　　　　　　　　　ＬＡＳＥＲ　＆　ＩＮＦＲＡＲＥＤ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ，２０１１ 　　文章编号：１００１５０７８（２０１１）０９０９４３０５ ·综述与评论 · 硅基光电子学中的ＳＯＩ材料 陈媛媛 （北京工商大学计算机与信息工程学院，北京 １０００４８） 摘　要：ＳＯＩ材料是近年来应用于硅基光电子学中的一种重要的光波导材料。本文首先简要 介绍了常见的ＳＯＩ材料的制备方法，包括注氧隔离（ＳＩＭＯＸＳＯＩ）、硅键合背面腐蚀（ＢＥＳＯＩ） 和注氢智能剥离（ＳｍａｒｔＣｕｔ）等，并比较了它们各自的特点和优劣。其次介绍了ＳＯＩ材料加工 制造波导的基本工艺，包括光刻和刻蚀，其中刻蚀又分为干法刻蚀和湿法腐蚀。 关键词：硅基；光电子学；ＳＯＩ；光波导材料；光波导器件 中图分类号：ＴＮ２５２　　文献标识码：Ａ　　ＤＯＩ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１００１５０７８．２０１１．０９．００１ ＳＯＩＭａｔｅｒｉａｌｓｉｎｓｉｌｉｃｏｎｂａｓｅｄｏｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ ＣＨＥＮＹｕａｎｙｕａｎ （ＣｏｌｌｅｇｅｏｆＣｏｍｐｕｔｅｒａｎｄＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＢｅｉｊｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙａｎｄＢｕｓｉｎｅｓｓＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１０００４８，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＳＯＩｍａｔｅｒｉａｌｉｓａｎｉｍｐｏｒｔａｎｔｋｉｎｄｏｆｏｐｔｉｃａｌｗａｖｅｇｕｉｄｅｍａｔｅｒｉａｌｓｆｏｒｓｉｌｉｃｏｎｂａｓｅｄｏｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓａｐｐｌｉｃａ ｔｉｏｎｓ．Ｉｎｔｈｉｓｐａｐｅｒ，ｔｈｅｃｏｍｍｏｎｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｍｅｔｈｏｄｓｏｆＳＯＩｍａｔｅｒｉａｌｓ，ｉｎｃｌｕｄｉｎｇＳＩＭＯＸＳＯＩ，ＢＥＳＯＩ，ＳｍａｒｔＣｕｔ，ａｒｅ ｉｎｔｒｏｄｕｃｅｄａｔｆｉｒｓｔａｎｄｔｈｅｉｒｄｉｆｆｅｒｅｎｔｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓａｒｅｃｏｍｐａｒｅｄ．Ｔｈｅｎ，ｔｈｅｃｏｍｍｏｎｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｔｏｍａｋｅｏｐｔｉｃａｌ ｗａｖｅｇｕｉｄｅｕｓｉｎｇＳＯＩｍａｔｅｒｉａｌｓ，ｉｎｃｌｕｄｉｎｇｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙａｎｄｅｔｃｈｉｎｇ，ａｒｅｉｎｔｒｏｄｕｃｅｄ．Ａｍｏｎｇｗｈｉｃｈ，ｔｈｅｅｔｃｈｉｎｇｔｅｃｈ ｎｏｌｏｇｙｉｓｄｉｖｉｄｅｄｉｎｔｏｗｅｔｅｔｃｈｉｎｇａｎｄｄｒｙｅｔｃｈｉｎｇ． Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｓｉｌｉｃｏｎｂａｓｅｄ；ｏｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ；ＳＯＩ；ｏｐｔｉｃａｌｗａｖｅｇｕｉｄｅｍａｔｅｒｉａｌｓ；ｏｐｔｉｃａｌｗａｖｅｇｕｉｄｅｄｅｖｉｃｅｓ １　引　言 的芯片级光互连。为实现低损紧凑的波导器件，必 ＳＯＩ材料早期主要是应用于微电子学技术中， 须寻求一种能够提供高折射率差的材料，而绝缘衬 利用ＳＯＩ材料可以制作各种高性能及抗辐射电子电 底上的薄膜硅材料（ｓｉｌｉｃｏｎｏｎｉｎｓｕｌａｔｏｒ，ＳＯＩ）正好能 路。随着光电子技术的迅速发展，到２０世纪８０年 够满足这种要求。作为绝缘体的材料通常为ＳｉＯ， ２ 代后期人们开始试图将ＳＯＩ材料用于导波光电子器 也有采用ＳｉＯＮ或蓝宝石的，其中采用Ｓｉ／ＳｉＯ／Ｓｉ结 ２ 件的研究。起初