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鈀 鎳 工 站 簡 介 一,鈀鎳物質介紹 1,鈀鎳合金說明. 2,鈀鎳物質的特性 二,鈀鎳鍍液的組分與特性 三,鈀鎳鍍液的調整與保養. 1,鍍液的調整. 2,鍍液保養的注意事項. 四,鈀鎳槽液的異常處理 鈀鎳合金說明: 1,電子連接制造工業對元件接觸區鍍鈀鎳的膜厚,延展性,光亮度, 耐磨,耐振動等功能性,都已得到可靠的信賴度.(同時金价比鈀鎳成本要高.使用鈀鎳制程有利于制造成本的降低.) 2,鈀鎳合金鍍層比鈀鍍層當作接觸物質使用在電子工業上是更有效率,適當量的鎳進入鈀結晶格子內共組成后會降低發生氫裂解 的傾向,并提供更高的硬度,延展性,表面光亮度,.除此外,并強調鈀鎳合金是非觸媒作用所引起,而是傾向于磨擦合作用所引起的所以比金或鍍鈀有較低的孔性及較好的耐磨阻抗,.所以鈀鎳合金是很好的電器元件接觸物質. 鈀鎳物質的特性; 1,穩定的組成,鎳變化從10-50% W 2,明亮如鏡子般的外觀. 3,高硬度. 4,高延展性. 5,可接受的孔性. 6,可接受較高的電鍍厚度. 7,簡單的化學成形. 8,鍍浴容易控制. 9,鍍浴壽命長. 10,陰極效率高. 11,對非貴金屬素材物質應減低浸蝕. 鈀鎳的組分與特性 1,氯化氨鈀: 主鹽,驗用于提供電鍍所需的鈀,提升鍍液鈀鹽濃度可提供鍍層中鈀含量,鍍液中鈀濃度一般控制在:18-22g/L. 2,鎳補充劑: 主鹽,供給電鍍所需的鎳,提升鍍液中鎳濃度可輕微提升鍍層中鎳含量,但影響遠比鈀小,一般濃鍍控制在:13-17g/L. 3,Brightener NO. 1(侵用于高氨系統) 基本光澤劑,鍍液中含量一般過剩,消耗量低,依哈氏片或廠商技朮人員建議添補. 4,Pallnic Additive (侵用于高氨系統) 依廠商技朮人員建議添補. 5,Wetting Agent (侵用于高氨系統) 6,Conducting Sait. 導電鹽,用于增強鍍液導電能力. 7,NH3?H2O(氨水) 用于調整鍍液PH值, PH值一般控制在7.5-8.5. 8,氫氧化鉀.(侵用于低氨系統) 用于調節鍍液PH值, PH值一般控制在7.5-8.5,建議按: 氨水:氫氧化鉀以1:2的比例添加. 9,Pallnic. 80 Deposit Modifier(侵用于低氨系統) 依廠商技朮人員建議添補. 鍍液調整與保養 1,鈀鹽: 濃度范圍:18-22g/l 目標值:20g/l 添加量(g)=(20-分析值)*V槽 *:每瓶鈀鹽含量為100gor50g.(每安培小時的消耗,應補充40% 的鈀鹽4g) 2,鎳鹽: 濃度范圍:13-17g/l 目標值:15g/l *鎳補充劑含量100g/l.(每安培小時的消耗,應補充100g/1NI濃 度2ML) 3,PH值. 范圍:7.8-8.5 目標值:8.0 *PH使用電位計量測,并用50%氨水或20%H2SO4來降低PH值. 鍍液調整時注意事項 一,葯品調整: 1,固体葯品一般溶解后添加. 2,液体葯品一般應稀釋后添加. 3,加水稀釋時要防止槽液溫度下降. 4,合金鍍液中要注意合金濃度比例. 5,稀釋某一成分時應同時考慮對鍍液中其它成分的影響. 二,液位調整: 1,為了確保分析數据的可靠性及代表性,生產人員須提前半小時調整好液面高度.加熱的槽液補水方式應以少加勤加為原則. 鍍液的保養 1,當鍍液中各種有机雜質含量較高時,用活性碳濾芯過濾. 2,當鍍液中有較大顆粒雜質時,用10U”或1U”濾芯過濾. 3,鎳,鈀鎳槽中的金屬雜質應用弱電解除去. 4,目前槽外過濾保養計划是1次/2個月. 5,弱電解板打磨為1次/3日. 6,每周活性碳過濾3-4小時. 7,PH檢測1次/2小時. 鈀鎳槽液的異常現象及處理 A:鈀鎳污染問題解決方法: ,污染問題通常會在生產線上,低電流密度鍍層區產生模糊, 無光澤,晦暗的現象,為了決定問題根源,采取兩個步驟: 1,取金屬污染溶液,作原子吸收光譜分析.(A.A) 2,作哈氏片試片,確認問題的根源,并決定在使用前,如何做 最有效的補救處理之道. B:常見的金屬污染. 1,銅污染