直流磁过滤电弧源沉积氧化铝薄膜的研究-表面技术.PDF

摇摇摇 78 弥谦等摇 直流磁过滤电弧源沉积氧化铝薄膜的研究 直流磁过滤电弧源沉积氧化铝薄膜的研究 弥谦,王昆,刘哲 (西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710032) 摇 摇 [摘摇 要]摇 采用直流磁过滤电弧源技术,在K9玻璃基底上制备氧化铝薄膜,研究了沉积时的氧气分量和阴 极靶电流对薄膜折射率、沉积速率、消光系数和表面粗糙度的影响。 结果表明:薄膜折射率、沉积速率和消光系数 均随着氧气分量的增加而降低,随着阴极靶电流的升高而增加;薄膜表面粗糙度则随氧气分量或阴极靶电流的增 加,呈先减小、后增大的趋势。 分析认为,主要是因为随着氧气分量和阴极靶电流的变化,基底表面铝原子和氧气 的比例发生了改变,进而影响到薄膜的相关性能。 [关键词]摇 电弧源;磁过滤;氧化铝薄膜;氧气分量; 阴极靶电流 [中图分类号]TG174.444;O484.4摇 摇 摇 [文献标识码]A摇 摇 摇 [文章编号]1001鄄3660(2013)01鄄0078鄄03 Alumina Oxide Thin Film Prepared by DCMagnetic Filtered Arc Source Deposition Technology MI Qian,WANGKun,LIUZhe (Shaanxi Province Thin Film Technology and Optical Test Open Key Laboratory, Xian Technological University,Xian710032,China) [Abstract]摇 Alumina oxidethinfilmwasfabricatedonK9 glassby DCmagneticfilteredarcsourcetechnologyandthein鄄 fluence of the oxygen component and cathode target current on filmsrefractive index,deposition rate,extinction coefficient and surface roughnesswasresearched.The resultsof experiment show that thefilmsrefractive index,the deposition rate and the ex鄄 tinction coefficient decreaseswiththeincreaseoftheoxygencomponent,butincreaseswiththeriseofthecathodetargetcurrent; Thesurfaceroughnessarereducedinitially,butincreasedafter.Andthemainreasonisthattheproportionofthealuminumatoms and oxygen on the surfaceof substrateischangedbythechangeof theoxygencomponent andthecathodetarget current,related to the performance of the film. [Key words]摇 arc source;magnetic filter;alumina oxide films;oxygen component;cathode target current 摇 摇 氧化铝薄膜是一种常用的中等折射率光学薄膜材 在电弧离子镀的基础上增加磁过滤技术,可使传统电 [12] 料,在可见和近红外波段范围内均具有较高的透射率, 弧源薄膜制备中的宏观颗粒问题得到很好的解决 。 加之其具有化学稳定性、热稳定性、绝缘性良好,耐磨