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2017-06-01 发布于浙江
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直流磁控溅射制备纳米TiO_2薄膜研究

19 1 ( ) Vol.19 No.1 第卷第期洛阳理工学院学报自然科学版 2009 3 Journal of Luoyang Institute of Science and Technology(Natural Science Edition) Mar. 2009 年月 TiO 2 1,2 2 陈林峰，程春晓（郑州大学物理工程学院，河南郑州；洛阳理工学院数理部，河南洛阳） 1. 450052 2. 471023 摘要：使用直流磁控溅射装置，通过在溅射过程中加入不同的金属网格， ℃条件下在玻璃衬底上制备了不同 250 晶粒尺寸的薄膜。利用场发射扫描电子显微镜（）、射线衍射谱（）对薄膜的表面形貌结构和进 TiO SEM X XRD 2 行了分析。研究结果表明：在磁控溅射过程中金属网格的引入能有效减小TiO 薄膜的晶粒尺寸，并且金属网格的 2 网孔尺寸越小，晶粒尺寸越小。关键词：TiO 薄膜；直流磁控溅射；网格；晶粒尺寸 2 中图分类号: O484.1 文献标识码: A 文章编号: 1674-5043(2009)01-0005-03 近年来，环境问题越来越受到人们的关注。使用半导体材料降解环境中的污染物已经成为一项热门研究课题。半导体光催化剂能有效降解环境中的有机物、氧化大气中的氮氧化物和SO 等有毒气体。另 2 外，半导体光催化剂还具有杀菌、除臭、防污等功能，能进一步净化、改善我们的生活环境。二氧化钛 (TiO ) [1-3] 2 具有较高的光敏性、稳定性和宽带隙，在紫外光照射下能够有效地降解空气或水中的污染物。因此，它具有催化活性高、化学稳定性好、价格低廉、使用安全以及制备的薄膜透明等特点，作为新一代的环境净化材料已经得到广泛应用。 [4] [5] [6] [7] TiO - 2 的制备方法有溅射镀膜法、化学气相沉积法、溶胶凝胶法、喷涂热解法等。磁控溅射是一种高效率、无污染的镀膜方法，制备条件和膜厚易于控制，而且其沉积速率高，沉积温度低，重复性好，