相分离高分子共混薄膜退火和准淬火的原位原子力显微镜研究.pdfVIP

Vo1．26 高等 学校 化 学 学报 No．9 2005年9月 CHEMICALJOURNALOFCHINESEUNIVERSITIES 1777—1779 [研究简报] 相分离高分子共混薄膜退火和准淬火的 原位原子力显微镜研究 廖永贵，由吉春，李 学，孙昭艳，石彤非，安立佳 (中国科学院长春应用化学研究所，高分子物理与化学国家重点实验室，长春 130022) 关键词 高分子共混；薄膜；相分离 ；退火；淬火；原位 ；原子力显微镜 中圈分类号 O631 文献标识码 A 文章编号 0251-0790(2005)09-1777-03 近年来，高分子共混薄膜在选择性渗透膜、生物材料、润滑剂、粘结剂 J、光敏电阻平板印刷、光 电器件及纳米尺寸表面图案化 等方面的研究 日益受到重视，应用前景也十分可观．然而，由于其相 容性较差，高分子共混物常发生相分离 J．相对于本体，表面的分子链具有更大的自由度 ，因此表面 高分子链的热运动状态与本体有很大差别 J．为控制因相分离而导致的相区尺寸，人们必须同时对相 分离热力学及动力学行为进行研究 ． 、 原子力显微镜(AFM) ’因纳米尺寸的分辨率很高而得到广泛的使用，在高分子共混相分离的研 究中发挥了重要作用 ．9J．但这些研究均为离位研究，往往受样品的热胀冷缩、样品和探针表面的水膜 等影响而使图像 (特别是与物理性质相关的图像)失真．因此，近年来，原位原子力显微镜的研究逐渐 增多 【1 J，特别是在高分子结晶和熔融方面的研究 1【 ． 聚甲基丙烯酸 甲酯 (PMMA)和苯 乙烯-丙烯腈无规共聚物 (SAN)是典型的具有下临界共溶温度 (LCST)的高分子共混体系 ’．17J．我们 曾分别用离位 和原位 17]AFM方法研究了此体系的表面相 分离，用离位法初步探讨了其相行为及相图，用原位法跟踪到了相区的增长和归并的动力学过程，而 这两种方法得到的相位图有很大区别，因此，本文 旨在探讨离位和原位的区别及其出现的原因． 1 实验部分 1．1 试剂与仪器 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA，M =3．87×10，M．／ =3．72)粉末和苯乙烯．丙烯腈 共聚物(SAN，其中AN的质量分数为30％，M ：1．49×10，M ／M =2．66购 自Aldrich公司)． 在 日本精工 (SeikoInstrumentsInc．)生产的带程序控温系统的扫描探针显微镜上进行敲击式原子 力显微镜 (TM-AFM)实验．测试过程：先将样品升至 115℃保持 11h以彻底除去溶剂，再升至 175℃ 保持26h，使之充分相分离，然后降温，每隔5℃保持2h，直至35℃；再升至 175℃并保持2h后， 关闭控温电源，使之 自然降温至室温(准淬火)，最后把空气放进真空腔内．除关闭控温电源(准淬火) 步骤外，其余升温和降温速率均为5℃ ／min；把空气放进真空腔前的测试均在高真空的条件下进行． 所用探针购于 日本Olympus，弹性系数为42N／m，扫描速率为2Hz． 1．2 样品制备 旋涂前，将切割成 1cm×1cm的单晶硅片置于由质量分数为80％的 sO、体积分 数为30％的HO 和去离子水 (体积比100：35：15)配成的清洗液中，于80℃煮30rain，再用去离子水 将硅片于80℃煮30min，用去离子水冲洗干净，并用高纯氮吹干 引．将预先配制的10g／L的1，2 氯乙烷的PMMA／SAN(质量比为50：50)溶液滴于处理后的硅片上，旋涂，将样品置于真空烘箱中，在 真空和室温下保持 12h以上，取出置于普通干燥器中备用．用德国BrukerD8DiscoverX．rayReflecto． 收稿 日期：2004-09-07． 基金项 目：国家 自然科 学基金 (批 准号50290090、国家重大基 础研究前期研 究专项 (批准 号： 2002CCAD4000)、国家杰出青年科学基金 (批准号和国家 自然科学基金重点项 目(批准号资助． 联系人简介：石彤非(1970年出生)，男，助理研究员，主要从事高分子本体及薄膜体系的相行为