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原子层沉积技术的发展现状及应用前景_魏呵呵.pdfVIP

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  • 2017-06-01 发布于浙江
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原子层沉积技术的发展现状及应用前景_魏呵呵.pdf

    原子层沉积技术的发展现状及应用前景_魏呵呵

    34 　 4 　　　　　　　　 　　　　　　　 　　　　　　　　　　　 2014 4 CHINESE JOURNAL OF VACUUM SCIENCEAND TECHNOLOGY 413 　 ＊ 魏呵呵　何　刚 　邓　彬　李文东　李太申 (　　230601) Latest Development and Application Prospects of Atomic Layer Deposition Technology ＊ Wei Hehe,He Gang ,Deng Bin,Li Wendong, Li Taishen (School of P hysics and Materia ls S cience, Rad

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