俄歇电子AES能谱2016.pptVIP

6.俄歇电子能谱的应用 研究固体表面的能带结构、态密度等。 研究表面的物理化学性质的变化。如表面吸附、脱附以及表面化学反应。 在材料科学领域，主要应用于材料组分的确定，纯度的检测，材料特别是薄膜材料的生长。 研究表面化学吸附以及表面化学反应。 在物理学，化学，材料科学以及微电子学等方面有着重要的应用。 6.1 固体表面清洁程度的测定 一般对于金属样品可以通过加热氧化除去有机物污染，再通过真空热退火除去氧化物而得到清洁表面。 而最简单的方法则是离子枪溅射样品表面来除去表面污染物。 样品的表面清洁程度可以用俄歇电子能谱来实时监测。 固体表面清洁程度的测定 图23表面清洁前后的俄歇电子能谱检测 6.2 表面吸附和化学反应的研究 由于俄歇电子能谱具有很高的表面灵敏度，可以检测到1~5原子单层，因此可以很方便和有效地用来研究固体表面的化学吸附和化学反应。 表面吸附和化学反应的研究 表面初始氧化过程的Zn LVV谱 6.3 薄膜厚度测定 通过俄歇电子能谱的深度剖析，可以获得多层膜的厚度。由于溅射速率与材料的性质有关，这种方法获得的薄膜厚度一般是一种相对厚度。 这种方法对于薄膜以及多层膜比较有效。对于厚度较厚的薄膜可以通过横截面的线扫描或通过扫描电镜测量获得。 薄膜厚度测定 从图上可见，TiO2薄膜层的溅射时间约为6分钟，由离子枪的溅射速率（30nm/min）,可以获得TiO2 薄