高纯铝电化学抛光工艺研究.pdfVIP

中国科技论文在线 SCIENCEPAPER ONLINE 447 高纯铝的电化学抛光工艺研究 孙 俊，辛 森，毕 红 （安徽大学化学化工学院，合肥 230039 ） 摘 要：本文研究了高氯酸/ 乙醇抛光液体系在 15 V安全电压下高纯铝的抛光工艺以及抛光过程的电流密度， 并对“暗色膜”现象进行了解释，对抛光电极间距、操作温度对抛光效果的影响进行探讨，得出最佳抛光工艺： 2 电极间距 7~8 cm ，操作温度 10~15 ℃，电流密度 0.7~0.8 A/m ，抛光时间 3 min 。 关键词：电化学；电化学抛光；高纯铝；暗色膜 中图分类号：O646 ；TQ586.5 文献标识码：A 文章编号：1673－7180(2008)06 －0447 －5 Research on electrochemical polishing technics of high pure aluminum film SUN Jun ，XIN Sen ，BI Hong (College of Chemistry and Chemical Engineering, Anhui University, Hefei 230039) Abstract: A kind of electrochemical polishing technics for high pure aluminum film is studied in the polishing system of the HClO /C H OH under voltage of 15 V. The variation of current density and the appearence of 4 2 5 “dark film” during polishing process are investigated. The influence of distance between electrodes and polishing temperature on polishing quality is also discussed in this paper. The optimum technical parameters are obtained as follows: distance between electrodes of 7~8 cm, polishing temperature of 10~15 ℃, current 2 density of 0.7~0.8 A/m and polishing time of 3 min. Key words: electrochemistry ；electrochemical polishing ；high pure aluminum ；dark film 0 引言 模板法可以结合其它多种合成方法（如化学镀、电 化学沉积和溶胶－凝胶法等）来制备一维纳米材料， 自从 1991 年发现纳米管以来,一维纳米材料由 所以氧化铝模板法是目前最常用的制备一维纳米材 于具有独特的物理、化学特性和形状各向异性，在 [3~5]