光纤光栅的制作-专题周记系统.PDFVIP

週記 3-光纖光柵的 製作 一、光纖光柵的特性 光纖光柵具有體積小、波長選擇性好、不受非線性效應影響、極化不 敏感、易於與光纖系統連接、便於使用和維護、帶寬範圍大、附加損耗 小、器件微型化、耦合性好、可與其他光纖器件融成一體等特性，而且 光纖光柵製作工藝比較成熟，易於形成規模生產，成本低，因此它具有 良好的實用性，其優越性是其他許多器件無法替代的。這使得光纖光柵 以及基於光纖光柵的器件成為全光網中理想的關鍵器件。 1978 年K.O.Hill 等人首先在摻鍺光纖中採用駐波寫入法製成第一隻 光纖光柵，經過二十多年來的發展，在光纖通信、光纖感測等領域均有 廣闊的應用前景。隨著光纖光柵製造技術的不斷完善，光纖光敏性逐漸 提高；各種特種光柵相繼問世，光纖光柵某些應用已達到商用化程度。 應用成果日益增多，使得光纖光柵成為最有發展前途 、最具代表性和發 展最為迅速的光纖無源器件之一。 二、光纖光柵的製作 1. 光敏光纖的製備 採用適當的光源和光纖增敏技術，可以在幾乎所有種類的光纖上不同 程度的寫入光柵。所謂光纖中的光折變是指激光通過光敏光纖時，光 纖的折射率將隨光強的空間分佈發生相應的變化，如這種折射率變化 呈現周期性分佈，並被保存下來，就成為光纖光柵。 光纖中的折射率 改變數與許多參數有關，如照射波長、光纖類型、摻雜水平等。如果 不進行其它處理，直接用紫外光照射光纖，折射率增加僅為（10的負 4 次方）數量級便已經飽和。足高速通信的需要，提高光纖光敏性日 益重要，光纖增敏方法主要有以下幾種： a.摻入光敏性雜質，如：鍺、錫、棚等。 b.多種 摻雜（主要是B／Ge 共接）。 c.高壓低溫氫氣擴散處理。 d.劇火。 2. 成柵的紫外光源 光纖的光致折射率變化的光敏性主要表現在 244nm 紫外光的錯吸收峰 附近，因此除駐波法用 488nm可見光外，成柵光源都是紫外光。大部 分成柵方法是利用激光束的空間干涉條紋，所以成柵光源的空間相干 性特別重要。主要的成柵光源有準分子激光器、窄線寬準分子激光器、 倍頻 Ar 離子激光器、倍頻染料激光器、倍頻OPO激光器等，根據實驗 結果，窄線寬準分子激光器是用來製作光纖光柵最為適宜的光源。它 可同時提供 193nm和 244nm 兩種有效的寫入波長並有很高的單脈衝能 量，可在光敏性較弱的光纖上寫人光柵並實現光纖光柵在線製作。 3. 成柵方法 光纖光柵製作方法中的駐波法及光纖表面損傷刻蝕法，成柵條件苛刻， 成品率低，使用受到限制。主要的成柵有下列幾種。 1）短周期光纖光柵的製作 a.內部寫入法 內部寫入法又稱駐波法。將波長 488nm的基模氛離子激 光從一個端面耦合到錯摻雜光纖中，經過光纖另一端面反射鏡的反射， 使光纖中的人射和反射激光相干涉形成駐波。由於纖芯材料具有光敏 性，其折射率發生相應的周期變化，於是形成了與干涉周期一樣的立 體折射率光柵，它起到了 Bragg反射器的作用。已測得其反射率可達 90％以上，反射帶寬小於200MHZ 。此方法是早期使用的，由於實驗要 求在特製鍺摻雜光纖中進行，要求鍺含量很高，芯徑很小，並且上述 方法只能夠製作布拉格波長與寫入波長相同的光纖光柵，因此，這種 光柵幾乎無法獲得任何有價值的應用，現在很少被採用。示。用準分 子激光干涉的方法，Meltz 等人首次製作了橫向側面曝光的光纖光柵。 用兩束相干紫外光束在接錯光纖的側面相干，形成干涉圖，利用光纖 材料的光敏性形成光纖光柵。柵距周期由∧=λuv／（2sinθ）給出。 可見，通過改變人射光波長或兩相干光束之間的夾角，可以改變光柵 常數，獲得適宜的光纖光柵。但是要得到高反射率的光柵，則對所用 光源及周圍環境有較高的要求。這種光柵製造方法採用多脈衝曝光技 術，光柵性質可以精確