第四章集成电路设计技术与工具.ppt

集成电路设计技术与工具 第四章 集成电路版图设计与工具 内容提要 4.1 引言 4.2 版图几何设计规则 4.3 电学设计规则与布线 4.4 晶体管的版图设计 4.5 九天软件下的版图编辑 4.6 九天软件下的版图验证 4.7 本章小结 4.1 引 言 版图（Layout）包含了器件尺寸、各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据，是集成电路从设计走向制造的桥梁。 不同的工艺就有不同的设计规则。设计者只能根据厂家提供的设计规则进行版图设计 。 从设计的观点出发，设计规则可以分为三部分： 1）决定几何特征和图形几何尺寸的规定。 2）确定掩膜制备和芯片制造中都需要的一组基本图形单元 的强制性要求。 3）定义设计人员设计时所用的电参数范围。 4.2 版图几何设计规则 版图几何设计规则可看作是对光刻掩模版制备要求。这些规则在生产阶段为电路设计师和工艺工程师提供了一种必要的信息联系。与版图规则相联系的主要目标是获得有最佳成品率的电路，而几何尺寸则尽可能地小，又不影响器件电路的可靠性。 集成电路的版图设计规则通常有多种方法来描述，其中包括以微米分辨率来规定的微米规则和以特征尺寸为基准的λ规则。 一、工艺层（Layer） 人们把集成电路版图设计过程抽象成若干易于处理的概念性版图层次，也就是版图设计中的工艺层，这些层次代表电路转换成硅芯片