微纳加工技术在光电子领域的应用!-中国光学光电子行业协会.PDFVIP

微纳米加工技术专题 微纳加工技术在光电子领域的应用! 4 韩伟华 ! ! 樊中朝! ! 杨富华 （中国科学院半导体研究所! 半导体集成技术工程研究中心! 北京! ’%%%5 ） 摘! 要! ! 纳米光电子器件正在成为下一代光电子器件的核心- 文章介绍了电子束光刻和电感耦合等离子体刻蚀 为代表的微纳加工技术在光电子学器件中的应用，主要包括量子点激光器、量子点678 探测器和光子晶体器件- 关键词! ! 纳米光电子器件，电子束光刻，电感耦合等离子体刻蚀，量子点器件，光子晶体 !#$%’$() (* ))(*+,$%’$() ’( (’(-#-%’,()$%. 4 79: ;0=7.1 ! ! 9: ?(@3A=B(1@! ! C9:D .=7.1 （!#$%’ ()*% +, -./+)01*+% 2)*3%$*0 4’)+5+36 ，2)#*/*1* +, -./+)01*+%# ，(’/)# 7$0.6 +, -/)# ，8/9 /)3 ’%%%5 ，(’/)$ ） !+.’,%’/ / :13@=E21/ 20F2.0)E 1F G2@H03A )( 2@F @I @*)@/2)F@302 JK02E @I )( 3L) A3F1)0@3- :13@= I1GF021)0@3 GM H13E @I /2)F@3 G1H /0)(@AF1*(M 13J 03J.2)0K/M=2@.*/J=*/1EH1 )2(03A 0E FK0,J ，I@2.EE03A H103/M @3 )( I1GF021)0@3 @I N.13).H J@) /1EFE ，678 N.13).H J@) J)2)@FE 13J *(@)@302 2FME)1/ JK02E- 0-12(,3./ / 313@=E21/ @*)@/2)F@302 JK02E ，/2)F@3 G1H /0)(@AF1*(M ，03J.2)0K/M 2@.*/J */1EH1 )2(= 03A ，N.13).H J@) JK02E ，*(@)@302 2FME)1/ 直方向）的外延层精度控制到单个原子层，从而获 ’! 引言 得了具有量子尺寸效应的半导体材料；另一方面，平 面纳米加工工艺实现了纳米尺度的光刻和横向刻 在过去的#% 多年中，微纳加工技术的进步极大 蚀，使得人工横向量子限制的量子线与量子点的制 地促进了微电子技术和光电子技术的发展［’］- 微电 作成为可能- 同时，光子晶体概念的出现，使得纳米 子技术的发展以超大规模集成电路为代表，集成度 平面加工工艺广泛地应用到光介质材料折射率周期 以每’5 个月翻一番的速度提高，使得以S%3H 为最 性的改变中- 小电路尺寸的集成电路芯片已经开始批量生产- 以 本文将重点阐述电子束光刻技术和TBU 刻蚀技 光刻与刻蚀为基础的平面为加工技术已经成为超大 术在新兴的纳米光电子学器件中的应用，主要包括 规模集成电路的技术核心，随着电子束光刻技术和 量子点激光器、量子点678 探测器和光子晶体器 电感耦合等离子体（TBU ）刻蚀技术的出现，平面微 件- 纳加工工艺正在推动以单电子器件与自旋电子器件 为代表的新一代纳米电子