扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计.PDFVIP

维普资讯 第 13卷 第 2期 电 子 科 学 学 刊 Vo1．13．No．2 t991年 3月 jOURN^L OF ELECTROH 【CS M af 199t 扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计 夏 善 红 朱 协 并 (中邕r；学院 电干学研究所，北京) 摘要 在综合研究已有的各种复合物l镜(如移动物镜、变轴物镜和摆动物镜等)的基础上，本 文对复合物镜的一般理论进行了探讨，推导了普垧化计算公式，井提出新的复台物镜 (弯曲物 镜)系统．采用解析函数近似表示系统场分布，对弯曲物镜系统象差进行了理论分析，并设计 出一个实际系 统．数值计算结果培出该系统在 5xSmm 扫描场 内，束孔径角 5 d和能散 2．5eV 下，最大彗差 0．005F~m，措向色差 0．001m． 关键词 电子光学；复合物镜 ；电子束曝光机；像差 一 、 引 言 为了寻求低像差 、大扫描场的电子束聚焦偏转系统，对于聚焦偏转复合物镜的研究显 得十分重要． 自1971年 Ohiwa等人首先提出 MOL (移动物镜)以来 ，相继 出现了 VAL (变轴物镜)、SOL (摆动物镜)、VAIL~a(变轴浸没物镜)和 PFDS (摆动复合 聚焦偏转系统)等复合物镜系统．但迄今为止 ，还没有形成关于复合物镜 的一般理论 ，尤 其缺乏对静 电复合物镜的研究． 本文在综合研究已有的各种复合物镜的基础上，对于包 括静电复合物镜系统在内的复合物镜一般理论进行了探讨，推导了普遍化计算公式，并提 出和设计 了新 的复合物镜 BOL (弯 曲物镜)系统 ．本文包括两部分 ：第一部分给出复合 物镜系统的普遍化计算公式，并对其进行讨论；第二部分介绍 BOL 系统的概念、像差 研究和实际系统设计． 二、复合物镜系统的普遍化计算公式 根据复合系统的电子光学理论 ，本节推导了复合物镜系统中偏转场普遍表示式和像 差系数公式，并给出了用于对像差进行理论分析的聚焦磁场和 电子轨迹解析表示式． I-偏转场表示式 在复合聚焦偏转系统 中，聚焦场、偏转场和电子轨迹三者构成电子轨迹方程 ，因此确 定三者中任意两个，第三个也就随之确定．为研究复合物镜系统，一般是给定聚焦场分布 和 电子束主轨迹 ，然后求偏转场分布． 偏转场表示式可 由复合场 中电子轨迹方程导出． 在三级近似下 ，复合系统 中电子轨迹方程表示为 ： |989年2月 l3日收到，t989年4月 29日修改定稿． 维普资讯 电 子 科 学 学 刊 I3卷 +互 + 4cp 一 2q, √2寺(＼+2) 一 + √mt， ∽ ， 1砉 ( 孑+ + 十 )] 一 f＼4 +2)／f＼8 + Fj～+亟 +上 一1 cp 4cp 4 。 2 。 ／ +兰二二 ：+ +盟 一亟 32 8cp 16oo 2 - 一 √毒(孚 孑+等 ) ， 一 √毒( 一孚 + 一警 + )cz， (1)、(2)式审， 0)一