沉积方式对hfo_2薄膜激光损伤阈值的影响.pdfVIP

第3 5卷 　增 刊 Ⅰ 华 　中　科 　技 　大 　学 　学 　报 ( 自然科学版) ol . 3 5 Sup . Ⅰ 2007年 　3月 　 J . Huazho ng U niv. of Sci . Tech . (N atu re Science Edit ion) 　Ma r. 　2 007 沉 积 方 式 对 Hf O2 薄 膜 激 光 损 伤 阈 值 的 影 响 袁宏韬1 , 2 　张贵彦1 ,2 　阚珊珊1 (1 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 , 吉林 长春 13003 3 ; 2 中国科学院 研究生院 , 北京 100039) 摘要 : 分别采用电子束蒸镀 、离子束辅助沉积 、离子束反应 辅助沉积 、双离子束溅射 技术制 备了二氧化铪薄 膜 ,研 究了薄膜的光学特性 、缺陷 、残余应力 、弱