roth-ran PECVD作业指导书.doc

软件操作。 关闭工艺 第一步；在软件system（设备）界面点击contol（控制）按钮。 第二步：在软件contol（控制）界面中，recipe(工艺方案)中点击stop(停止)按钮---关闭工艺，transport(传输)中点击stop(停止内外部传输)按钮---关闭传输。 第三部:点击back(退出)按钮，返回到system（设备）界面。 设备降温。 第一步：在软件system（设备）界面中，点击process chamber(工艺腔)按钮。 第二步：在软件process chamber(工艺腔)界面中，点击parameter(参数)按钮。 第三步：降温。在软件parameter(参数)界面，将stand-by（待机）温度由400℃更改为0℃，并点击save按钮。 第四步：在软件parameter(参数)界面，并点击save---back按钮，返回 process chamber(工艺腔)界面。 第五步：在软件process chamber(工艺腔) 界面中，点击system（设备）按钮，返回system（设备）界面。 腔体充氮气。 第一步:在system（设备）中，点击pumps(真空泵状态)按钮。 第二步：关闭角阀。在软件pumps(真空泵状态)界面中，点击standby待机(process chamber)—standby(load chamber)—standby(unload chamber)按钮。 第三步：补充氮气。在软件pumps(真空泵状态)界面中，点击vent(补充氮气)按钮，包括工艺腔，进料腔，出料腔，直到＞900mbar的指示灯变绿，补氮工作结束。 第四步：在pumps(真空泵状态)界面中，点击back按钮，返回system（设备）界面。 打开腔体盖板。 第一步：当腔体温度到250℃以下时，在system（设备）界面中，点击cover control(盖板控制)按钮。 第二步：在cover control(盖板控制)界面中，依次点击cover1(盖板1)—cover2(盖板2)—cover3(盖板3)—cover4(盖板4)—open按钮。 第三步：在操作键盘上，同时按push-buttons按钮，直到盖板完全打开不再移动时才松手。 二．拆卸作业 1．拆卸石英管 第一步：先拆除微波产生器外部的盖子。 第二步：拔出每一侧与微波产生器相连的铜制天线（约80mm长），共16根。 第三步：踩在工艺腔表面，使用铁锤砸断石英管，用半月形扳手旋送石英管卡头，却下共8根石英管。注意：砸断石英管时小心内部的铜管不要损坏。 2．拆卸沉积槽 使用活动扳手依次拆下沉积槽上螺母，小心取下沉积槽。 三．清洁作业 清洁等离子体源/工艺腔盖板 第一步：用真空吸尘器先将上面附着的杂质祛除，也可用钢丝刷和砂纸清除那些真空吸尘器难以祛除的附着比较严重的部分。 第二步：查看所有出气口的气孔（直径为1mm）是否被堵死，如有堵塞情况可用1mm的钻孔机或细针将其疏通，可松动螺丝钉和气体连接口将堵塞的部分卸下并单独进行清洁或更换。 工艺腔体清洁 第一步：使用真空吸尘器清洁腔体内氮化硅粉尘与碎硅片。 第二步：使用沾有无水乙醇的无尘布清洁密封圈。 注意：指定一个方向擦拭密封圈3-4遍。 沉积槽清洁 使用刮刀清洁沉积槽表面附着的氮化硅。 沉积槽安装 依次将沉积槽安装在工艺腔腔盖上。 更换作业 更换石英管。 第一步：将拆下的石英管配件使用无水乙醇清洗，检查是否适合真空操作（如有必要可从备件中找寻并更换），在清洗完所有的备件后请按下图所示的顺序进行装配。 第二步：将石英管按下图所示用力挤压插入到准备好和铝罩中，在此过程中可滴入酒精作为润滑。 第三步：将石英管内的铜管正确的放入聚四氟乙烯的支持圆盘中。 第四步：将两侧的卡口互锁插头滑至石英管的两头。 第五步：在酒精的帮助下将石英管的另一端插入已准备好的第二个铝罩中并同时将铜质内部导体放入第二个聚四氟乙烯的支持圆盘中。 第六步：将装配好的石英管上的卡口固定在法兰上，再用半月形工具先嵌入卡口互锁插头的孔中然后再逆时针旋转将其拧紧。(注意:卡口接头和法兰的直径之间允许的误差范围为0.1-0.2mm) 第七步：把两侧微波发生器上的铜天线插入，检查石英管中的铜导管是否无脱落现象，检查完毕，将腔体中的维修工具搬出，维护人员撤离。 五．确认作业。 1．开泵。测试真空。 第一步：开泵。在软件pumps(真空泵状态)界面中，点击evacuate(抽真空)工艺腔，进料腔，出料腔按钮。 第二步：经过泵抽真空一段时间后，看腔体真空度是否达到2.0e-2mbar以下，达到为正常。 2．测试工艺气体流量、微波与传输。 第一步：在软件contol(控制)界面中，recipe(工艺方案)界面中先在下拉菜单选中ceshi工艺，然后点