Ar+离子束对U薄膜表面粗糙度的影响.pdfVIP

第39 卷第5 期 稀有金属材料均工程 协1.39， No.5 2010 年 5 月 RARE METAL MATE RlALSAND ENGINEERING May2010 Ar+离子束对 U 薄膜表团粗糙度的影响 张犀亮，吕学超，任大鹏，李咪，赖新春，赵天明 (中阔工程物现研究院，四川绵阳 621900) 摘 要z 采用 Ar+离子束对U 薄膜表面进行反应溅射，通过白光干涉仪和台阶仪的测量E与分析，着震研究Ar今离子来溅 0 射能量、入射角度对其表面粗糙度 Ra 的影响，并与 Ar+离子束刻蚀试验进行比对。结果表明，以 30 角入射，随溅射时 间的增加，能最为 0.5 keV 的 Ar+离子柬较1.0 keV 对