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第档卷第3期 真空 VACUUM V01.48,No.3
2011年5月 May.2011
半导体电学特性四探针测试技术的研究现状掌
李建昌,王永,王丹,李永宽,巴德纯
(东北大学,机械工程与自动化学院真空与流体工程研究中心,辽宁沈阳‘110004)
摘 要:四探针法是材料学及半导体行业电学表征较常用的方法,其原理简单,能消除接触电阻影响,具
有较高的测试精度。由厚块原理和薄层原理推导出计算公式,并经厚度、边缘效应和测试温度的修正即可
得到精确测量值。据测试结构不同,四探针法可分为直线形、方形、范德堡和改进四探针法,其中直线四
探针法最为常用,方形四探针多用于微区电阻测量。本文综述了四探针测试技术的基本理论,包括四探针
法的分类、原理和修正,并阐述r四探针测试技术在微观领域的发展。
关键词:四探针法;半导体表征;微观四点探针;电阻率
:
中图分类号:TN307 文献标识码:A 文章编号:1002—0322(2011)03—0001—07
for
ofthe semiconductor
Progressfour-probetechnique conductivity
LI De—chun
Yong,WANGDan,LIYong—kuan,BA
Jian-chang,WANG
Mechanical
(Schoolof EngineeringAutomation,NortheasternUniversity,Shenyang110004,China)
for
methodisoneofthemostcommonmethods theelectrical inmaterialscience
Abstract:Four-probe studying properties
andsemiconductorindustries its andminordemandon calculation
tO
owing highaccuracy samplepmparation.Theequations
canbederived theinfinitetwo—dimensionalorthroe-dimensionalcan accuratemeasuroment
byusing theories,whichgive
resultsafter theeffectsof and methodCanbedividedintomodesof
correcting thickness,edgetemperature.FoOr—probe
methods.Thelinemodeis mostused
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