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薄膜物性课论文 题目： 物理气相沉积镀膜技术综述 姓名： 学号： 班级：  摘要：科技的发展对材料的要求越来越高一种新材料的问世对社会的影响将非常巨大。薄膜材料的获得一般都不太容易而且其价格不菲由此，研究新型的薄膜材料制备技术就很有意义。本文介绍了真空下各种物理镀膜技术的基本概念讨论了镀膜装置的镀膜方式、特点和应用及真空镀膜技术的发展现状及趋势。 关键词：镀膜技术；工艺原理；应用更多还原 一.引言 薄膜是一种物质形态它所使用的膜材料非常广泛可以是单质无素或化合物也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样可以是单晶态的、多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有极其重要的地位。 镀膜技术也叫薄膜技术，是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得所需的膜体。镀膜技术是最初起源于20世纪30年代，直到70年代后期才得到较大发展的一种技术。目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域[1]。 气相沉积技术是利用气相之间的反应，在各种材料或制品表面沉积单层或多层薄膜，从而使材料或制品获得所需的各种优异性能。气相沉积技术按机理分为物理气相沉积[2]Physical Vapor Deposit