XPS测量稀土氧化物薄膜禁带宽度的可行性研究_许菲菲.pdfVIP

加工、 测量与设备 与 显微、测量、微细加工技术 设备 Processing ， Measurement and Equipment Microscope ，Measurement ，Microfabrication Equipment ＸＰＳ测量稀土氧化物薄膜禁带宽度的可行性研究 许菲菲 ，胡 琴 ，杨百良 　 （ ， ） 绍兴 文理 学院 物理系 浙 江　 绍兴　 ３１２０００ ： ， 摘要 采用射频磁 控 溅射 法在石英衬 底 和 衬 底上 分别 生 长 了 和 三种 稀 Ｓｉ ＥｒＯ Ｔｍ Ｏ Ｙｂ Ｏ ２ ３ ２ ３ ２ ３ 土氧化 物 薄膜 。分别利用光学 方 法和 Ｘ射 线 光电子 能谱 测 量 法对 以上 三种 稀土 氧化 物 的 禁带宽 度进行 了测量 ，并将 测量结 果 进行 了对比研究 。采用光学 方 法 测 量 的 ＥｒＯ ，Ｔｍ Ｏ 和 Ｙｂ Ｏ ２ ３ ２ ３ ２ ３ 的 带隙分别是 （ ），（ ） 和 （ ） ；而采用 射 线 光电子 能谱 法 测 量 ６．３±０．１ ５．８±０．１ ７．１±０．１ ｅＶ Ｘ 的这 三种材料 的禁带宽度 分别 为 （ ）， （ ） 和 （ ） 。两种 测 量结 果 ６．２±０．２ ６．０±０．２ ６．９±０．２ ｅＶ 的对 比分析表 明 ：在误 差 允许 的 范围内 ，利用 Ｘ射 线 光电子 能谱 方 法 测 量 稀土 氧化 物 的 禁带宽 度是 可行的 。 ： ； ； （ ）； ； 关键词 高 栅 介质薄 膜 禁带宽度 射 线 光电子 能谱 紫外 可 见 分 光光 度 计 稀 ｋ Ｘ ＸＰＳ － 土氧化 物 薄膜 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） Ｏ７６６．３ Ａ １６７１－４７７６ ２０１３ ０３－０１９０－０４ 　 　 Ｓｔｕｄ ｏｎｔｈｅＦｅａｓｉｂｉｌｉｔ ｏｆＭｅａｓｕｒｉｎ ｔｈｅＢａｎｄＧａ ｏｆ ｙ 　 　 ｙ 　 ｇ 　 　 ｐ 　 　 　 　 ＲａｒｅＥａｒｔｈＯｘｉｄｅＦｉｌｍｓｂ ＸＰＳ 　 　 　 　 ｙ