纳米膜层厚度标准的研制.pdfVIP

第33卷第5A期 计 量 学 报 5A V01．33，No 2012年 11月 ACTAME_rROLOGICASINICA 158．2012．z1．14 doi：10．3969／i．issn．1000-1 纳米膜层厚度标准的研制 崔建军1”， 高思田2， 杜 华2， 叶孝佑2， 严利平3 (1．天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室，天津300072；2．中国计量科学研究院，北京100013； 3．浙江理工大学纳米测量技术实验室，浙江杭州310018)) 摘要：为实现纳米薄膜厚度计量的量值溯源，研制了一套纳米薄膜厚度校准样片，其中纳米单层膜厚度标准片 带有可供各类接触式测量仪器测量的膜厚图形，厚度值从5砌至100 nln。该校准样板能够分别在x射线衍射仪、 椭偏仪、原子力显微镜、台阶仪等多种测量原理不同的仪器上进行了溯源性测量。而纳米多层膜标准样片包括纳 米超晶格和等周期厚度的多层膜，能够对反射高能电子衍射、电子显微镜、卢瑟福背散射、俄歇电子能谱和二次离 子质量分析、x线电子能谱等仪器进行溯源性测试。通过研制的纳米薄膜厚度校准样片实现了多类纳米薄膜厚度 测量仪器的校准和量值溯源。 关键词：计量学；纳米计量；纳米膜厚标准；量值溯源；X射线衍射 中图分类号：TID2 文献标识码：A 文章编号：1000．1158(2012)5A-0054-05 ofNanofilmThickness Development Standard CUI Jian-junl”，GAOSi—tian2，DUHua2，YEXiao．you2，YAN Li—pin93 (1．State ofPrecision and KeyLaboratory MeasuringTechnologyImtnanents，TianjinUniversity，Tianjin300072，China； 2．NationalInstituteof 10001 3，China； Metrology，Beijing 3．NanometerMeasurement Sci—Tech Lab，ZhejiangUniversity，Hangzhou，Zhejiang310018，China)) realizecalibrationofthenanofilms serialofthenanofilmsthicknessstandardsare Abstract：To thickness，a ofthemare have whichwasmadesome areavailablefor developed．some only singlelayer specificgraphs．Thesegraphs some of and instru