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COLZINC ACF-II 鹼性無氰鍍鋅工藝 技術說明書 特徵  濃度高，聚胺類配方，用於鹼性無氰鍍鋅 ，提供光澤鍍 。  可在較大的鋅金屬含量範圍內操作。範圍為5.5-26.0克/升。  即使厚度超過31.75微米，所生成的鍍層仍具有極好的延展性。  具很好的耐溫性。可在高達52°C的溫度下 ，生成光澤鍍 。  電流密度低，覆蓋力和均鍍能力好，特別適合掛鍍多角深凹複雜部件 如連接件、 ( 管件，以及電腦底盤) 。  對鍍液中的鈣 ，鎂 ，鉛 ，鎘 ，鐵和鉻等雜質具有很好的相容性。這些雜質通過維護 添加氫氧化鈉 ，自來水，鋅金屬補充，以及電鍍前部件帶入等管道進入電鍍溶液。  適合電流密度低的滾鍍 ，以及大範圍電流密度的掛鍍 。  易接受光澤鍍鋅 中普遍使用的傳統鉻鈍化處理。 操作參數 範圍 最佳值  掛鍍 金屬鋅 5.5-18.75克/升 11克 氫氧化鈉 NaOH 75-150克/升 120克/升 操作溫度 18-52℃ 29℃  滾鍍 金屬鋅 Zn 7.5-24.4克/升 15克/升 氫氧化鈉 NaOH 90-150克/升 135克/升 操作溫度 18-52℃ 29℃ 電鍍溶液配方  新電鍍溶液可在氫氧化鈉 中溶解鋅陽極，或者使用氧化鋅和氫氧化鈉來配製。不管 是哪一種情況，最高純度的材料應避免金屬雜質 。  以下是100升溶液的配方: 掛鍍 滾鍍 氧化鋅 1.4公斤 1.87公斤 氫氧化鈉 NaOH 12公斤 13.5公斤 ACF-II BRIGHTER光澤劑 1.5升 2.0升 ACF PURIFIER淨化劑 100毫升 100毫升 Tel ：02-2609-7152 / Fax ：0945-615-087 / 新北市樹林區三俊街 199 巷 20 弄 1 號 No.1, Aly. 20, Ln. 199, Sanjun St., Shulin Dist., New Taipei City 238, Taiwan (R.O.C.) LCD BOOSTER低區增量劑 25毫升 100毫升 ACF CONDITIONER調整劑 100毫升 100毫升  在電鍍槽(最好是用單獨的鍍液配製槽)內放少量水，緩慢加入氧化鋅 ，使成泥漿狀 。  緩慢加入氫氧化鈉和水，到大約體積的三分之一。  攪拌直到氧化鋅全部溶解。  加水稀釋到接近最終體積 ，