人因工程在半導體廠的應用.PDF

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人因工程在半導體廠的應用

人因工程在半導體廠的應用 王茂駿 清華大學工業工程與工程管理系教授兼系主任 吳欣潔 清華大學工業工程與工程管理系博士班研究生 1999 年4月發表於 「工業安全科技」,第30 期,頁33-41 前言 製造業中,重複性動作傷害(RMF ,Repetitive Motion Injury )之問題,在 國內外已廣泛受到重視,以美國為例,由於不當的人因工程設計之設備及作業方 式,所造成的骨骼肌肉傷害之賠償金額高達每年兩百億美元。若加上一些間接的 損失,如生產力下降、人員離職、士氣低落、重新訓練、公司形象受損,則可達 到一千億美金之損失。有鑑於此,加州政府已針對人因工程中,重複性動作傷害 部分著手立法,其法令條文已被職業安全衛生法令委員會所採納。 而美國一些半導體製造公司如Intel ,HP ,Motorola 早在數年前即發現:現 場作業人員有發生骨骼肌肉傷害的問題,也採取一些人因工程現場改善之措施與 對策。因此,Semitech 在S8-95 中,對於人因工程在設備與現場操作方面,亦提 出建議指引。國內也有幾個著名的半導體廠,在發現現場作業人員有眼睛疲勞、 骨骼肌肉傷害或全身疲勞等問題時,曾尋求我們給予人因工程方面的技術指導, 以期經過人因工程的分析與改善後,能創造一個更具人性化的現場作業環境,進 而提升整體工作績效與工作生活品質。 一、人因工程的簡介 人因(Human Factors )工程是探討人類日常生活或工作中如何與工具、設 備、機器及周遭環境之間互動的關係,以及如何去設計這些會影響到人的事物及 環境。易言之,人因工程就是要去改善那些人們所常使用的器物與所處的周遭環 境,使其與人本身的能力、本能極限與工作需求之間能有更好的配合,以求安全、 省事、省力、快速、舒適、不易犯錯、不會疲勞與正確等工作效益的提昇。 換個角度來看,就是將人視為整個系統的一部份,除了技術外,為了發揮 整個系統的預期功能,以及將人視為最有效的資源,再加上昂貴的人力成本,所 以我們要研究「人」這個子系統,使其他的子系統與「人」類實體的、生理的、 生物力學的、心理的、社會心理的、文化的因素相容或適配,以發揮「人」的最 大功能並使其不受傷害,這也就是人因工程的宗旨。 二、半導體廠的安全衛生問題 由經濟部工業局「工安快訊」網頁裡的「安衛產業在半導體工業之應用現 況與趨勢」得知:半導體製造業潛在的安全衛生問題,並不亞於其他傳統工業。 再參考「工業安全科技」28 期的「半導體業安全衛生問題淺論」等文獻,可將 半導體廠常見的潛在危害狀況整理成三大類: (一).化學物質危害 半導體製程非常繁雜,使用的危險化學品也相當多,包括強酸、強鹼、 腐蝕性有機溶劑、有毒氣體、自燃氣體、或窒息氣體等,如果這些危險化 學物質洩漏出來,接觸到人體會造成很大的傷害 ;也有可能因為這些物質 產生化學變化,造成火災爆炸等重大意外事故,例如去年十月聯瑞電子六 吋晶圓廠大火,是由酸毒廢棄管道和真空幫浦室不明氣體燃燒所引起。同 年十一月天下電子四吋晶圓廠也因無塵室蝕刻區光阻去酸槽不明氣體燃燒 引發大火。 (二).幅射和靜電危害 在半導體製程中所用的一些設備單元,例如離子植入機產生離子束、 蝕刻機之RF 產生器、水銀蒸氣燈產生的紫外線等皆有潛在產生游離或非游 離幅射之危害。如果防護措施沒做好,使人體曝露在輻射中過量,即會傷 害到人體。游離幅射對曝露的人體具傷害細胞效應,而非游離幅射會造成 眼睛與皮膚傷害,還可能引起令人惡厭之電效應干擾重要設備的功能操 作,或發生靜電火花等。 (三).機械危害 半導體製程有使用機械人與自動化操作之相關製程設備有潛在對相關 人員發生機械危害,例如設備元件之功能異常與移動部份對人員所發生之 撞擊、切割、夾捲等機械性危害。這些存在於人機介面的危害因素,藉由 深入的人機系統分析,可擬出具體的預防對策。 除了以上三類常見的潛在危害狀況之外,還有一個長期影響著員工,卻很 少被主管階級發現的潛在危害因素,就是和人因有關的危害因素。最近幾年,這 個問題已經逐漸顯露,在「工業安全科技」28 期之「新竹科學園區六大行業之 職業災害比較分析」得知:積體電路業失能傷害頻率從83 年到87 年5 月有逐年 上升的

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