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离子注入工程培训教材ion implantation;什么是离子注入？;离子注入的优点;离子注入的局限性;离子注入系统;接上面的内容;离子注入机（NH-20S）结构图;离子注入系统的组成;第一部分离子源（ion source）;其特殊的性质，刻蚀作用，帮助我们清洗设备，稳定束流。离子源（Ion Source) 灯丝(filament)发出的自由电子在电磁场作用下，获得足够的能量后撞击分子或原子，使它们电离成离子，再经吸极吸出，由初聚焦系统聚成离子束，射向磁分析器。阳离子生成处是在等离子环境中，使气体分子离子化。 离子源的电场由ARC电压和ARC电流提供。;两种离子源对比;我们常用的就是弗利曼（freeman）式离子源，还由一种为伯纳（bernas）式离子源。影响离子产生的因素有：灯丝的好坏，离子源安装的位置，通入气体的量的多少等，因此每次更换离子源时要认真操作，把位置放好，注意吸极石墨板的位置，以免短路，造成没有必要要的损失。（这里指大束流注入机）;第二部分源磁;第三部分磁分析器;第四部分加速管(Acceleration tube);第五部分聚焦和扫描系统 (deflection and scanning );偏析板;第六部分靶室和后台处理系统(Target Assembly);以上就是注入机的基本结构，不同注入机结构有很多不同之处，希望大家在今后的工作中能逐渐的掌握，有不懂的