【2017年整理】硅材与料09届题库.doc

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【2017年整理】硅材与料09届题库

一: 单晶硅晶胞常数为0.543 nm,计算(100),(110),(111)晶面的面间距和原子密度 (110)面:面间距:0.543nm ;面密度:6.783nm-2 (110)面:面间距:0.768nm ;面密度:4.748nm-2 (111)面:面间距:0941nm ;面密度:7.801nm-2 举例说明晶体缺陷主要类型 缺陷分为:点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷 点缺陷:肖特基缺陷和弗仑克尔缺陷,反结构缺陷 线缺陷:位错,分为刃行位错、螺旋位错 面缺陷:层错,常见的有外延层错、热氧化层错 体缺陷:有空洞、夹杂物、沉淀等 画出PN结能带图及载流子分布 PN结能带图: 载流子分布: 简述光生伏特效应 1)用能量等于或大于禁带宽度的光子照射p-n结; 2)p、n区都产生电子—空穴对,产生非平衡载流子; 3)非平衡载流子破坏原来的热平衡; 4)非平衡载流子在内建电场作用下,n区空穴向p区扩散,p区电子向n区扩散; 5)若p-n结开路,在结的两边积累电子—空穴对,产生开路电压。 简述硅太阳能电池工作原理 太阳能电池发电的原理主要是半导体的光电效应,硅太阳能电池的基本材料为P型单晶硅,上表面为N+型区,构成一个PN+结。顶区表面有栅状金属电极,硅片背面为金属底电极。上下电极分别与N+区和P区形成欧姆接触,整个上表面还均匀覆盖着减反射膜。当入发射光照在电池表面时,光子穿过减反射膜进入硅中,能量大于硅禁带宽度的光子在N+区,PN+结空间电荷区和P区中激发出光生电子——空穴对。各区中的光生载流子如果在复合前能越过耗尽区,就对发光电压作出贡献。光生电子留于N+区,光生空穴留于P区,在PN+结的两侧形成正负电荷的积累,产生光生电压,此为光生伏打效应。当光伏电池两端接一负载后,光电池就从P区经负载流至N+区,负载中就有功率输出。 如何从石英砂制取硅?简要框图说明从石英到单晶硅的工艺 加料—→熔化—→缩颈生长—→放肩生长—→等径生长—→尾部生长 SiO2+4HCl=SiCl4+2H2O SiCl4+2H2=Si+4HCl 首先对石料分拣出纯石英石,然后用水冼机去皮清污,然后由胶带运送至破裂机粗粉碎,细碎的石料进入磁选振念头筛分出两种石英石:对知足精制的石英砂,举行酸冼、水冼、去铁、去硫去除杂质,再细粉碎或经球磨机制成超细粉未,按目数分级制品,末了包装入库;对不能知足精制的石英砂料,再经破裂后制成低端粗制石英砂产品and供炼钢厂做炉底料。 增长中端精制石英砂产品线,对原料深加工可以有用地进步经济效益。 简述半导体硅中的杂质对其性能的影响 杂质对材料导电类型的影响 当材料中共存施主和受主杂质时,他们将互相发生补偿,材料的导电类型取决于占优势的杂质。对于硅材料,当Ⅲ族杂质元素在数量上占优势时,材料呈现P型,反之当Ⅴ族元素占优势时则呈现N型,当两者数量接近,他们相互补偿,结果材料将呈现弱N型或弱P型。 2)杂质对材料电阻率的影响 半导体材料的电阻率一方面与载流子浓度有关,另一方面又与载流子的迁移率有关。同样的掺杂浓度,载流子的迁移率越大,材料的电阻率越低。如果半导体中存在多种杂质,通常情况下,可以认为基本上属于杂质饱和电离范围。在有杂质补偿的情况下,电阻率主要由有效杂质浓度(NA-ND)或(ND-NA)决定。但是总的杂质浓度N1=NA+ND也会对材料的电阻率产生影响,因为当杂质浓度很大时,杂质对载流子的散射作用会大大降低其迁移率。 3)杂质对非平衡载流子寿命的影响 半导体材料中的杂质和缺陷,对非平衡载流子寿命有重要的影响,特别是重金属杂质,它们具有多重能级而且还是深能级,这些能级在禁带中好像台阶一样,对电子和空穴的复合起“中间站”的作用,成为复合中心。它捕获导带中的电子和价带中的空穴使两者复合,这就大大缩短了非平衡载流子的寿命。 以P掺入Si为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和N型半导 P在硅中电离时,能够施放电子而产生导电电子并形成正电中心,称它们为施主杂质。 P在硅中电离时,能够施放电子而产生导电电子并形成正电中心,称它们为施主杂质。 磷原子占据硅原子的位置。磷原子有五个价电子。其中四个价电子与周围的四个硅原于形成共价键,还剩余一个价电子。这个多余的价电子就束缚在正电中心P+的周围。价电子只要很少能量就可挣脱束缚,成为导电电子在晶格中自由运动,这时磷原子就成为少了一个价电子的磷离子P+,它是一个不能移动的正电中心。上述电子脱离杂质原子的束缚成为导电电子的过程称为杂质电离。 施主杂质电离后成为不可移动的带正电的施主离子,同时向导带提供电子,使半导体成为电子导电的n型半导体。 以B掺入Si为例,说明什么是受主杂质、受主杂质电离过程和P型半导体 B在硅中能够接受电子而产生导电空穴,并形成负电中心,所以称它们为受主杂质。 B原子占据

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