5热蒸发镀膜.pdf

§4.1.2 淀积技术 热蒸发镀膜技术 ☀热蒸发原理 ☀蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 ☀蒸发源的类型 光学真空镀膜机大多数是热蒸发真空镀膜设 备，主要由三大部分组成：真空系统、热蒸发系 统、膜厚厚度监控系统。 真空热蒸发镀膜是在真空室中，加热蒸发器 中待形成薄膜的源，使其原子或分子从表面气化 逸出，形成蒸气流，入射到衬底或基片表面，凝 固形成固态薄膜的方法。 几十年的历史。 全自动精密光学镀膜机 • 镜片悬挂 机构 APS1104真空室内情况 真空蒸发原理 真空腔体内部结构 真空蒸发原理  真空蒸发的特点与蒸发过程 特点： 设备比较简单、操作容易； 薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制； 成膜速度快、效率高，采用掩模可以获得清晰 的图形； 薄膜生长机理比较单纯。 缺点：不容易获得结晶结构的薄膜，薄膜附着力较小，工 艺重复性差。 真空蒸发原理 蒸发度膜的三个基本过程： 加热蒸发过程 气相原子或分子的输运过程（源-基距） 蒸发原子或分子在基片表面的淀积过程  饱和蒸气压 饱和蒸气压的概念：在一定温度下，真空室中蒸 发材料的蒸汽在与固体或液体平衡过程中所表现的压 力称为该温度下的饱和蒸汽压。 蒸发温度：物质在饱和蒸气压为10-2 Torr时的温度， 称为该物质的蒸发温度。 真空蒸发原理 克拉伯龙-克劳修斯（Clapeylon-Clausius ）方程： dP H v dT T (V V ) g s H V 为摩尔汽化热或蒸发热（J/mol ）； 和 分别为气 v V g s 3 相和固相的摩尔体积（cm ）； 为绝对温度（K ）。 T 因为V V ，假设低压气体符合理想气体状态方程， g s 则有 RT V V V V g s g g P  dP H PH PH d (ln P) H v v v v  dT TV TPV RT 2 d (1 T ) R g g 真空蒸发原理