80和非平衡磁控溅射镀制备TiNC黑色硬质膜.pdf

第40卷第4期 材料保护 V01．40No．4 A 2007年4月 MaterialsProtection pr．2007 柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀 制备Ti．N．C黑色硬质膜 马胜歌。康光字 (深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心，广东深圳518029) [摘要]采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti·N-c多层复合黑色硬质 膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜(sEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能。结果 表明，两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜，柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好；中 频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深。 [关键词] 黑色硬质膜；Ti—N—C；柱弧离子镀；中频溅射；非平衡磁控溅射 [文献标识码]A [中图分类号]TB43 0前言 极磁铁分布使异性两磁极在阴极表面不但构成横向 (平行于放电阴极)磁场，还能将部分纵向(垂直于放电 黑色硬质膜大都富含c，具有低反射率、高硬度、低 阴极)磁场延伸到镀膜区域，进一步增加镀膜区域的离 摩擦系数等优点，已广泛应用于有耐磨性要求的装饰 子浓度，提高膜层品质¨’2’9。1I。中频溅射和非平衡磁 领域[1。]。在国内，尤其是珠江三角洲地区，普遍将柱 控溅射的特点也有助于解决目前国内利用柱靶直流反 靶直流反应磁控溅射和辅助灯丝电离结合起来制备 应磁控溅射制备黑色硬质膜存在的问题。 Ti—N—C黑色硬质膜。该工艺可以获得颜色较深的黑色 本工作采用自行研制的柱弧离子镀膜设备和中频 硬质膜，但存在成品率低的问题，主要是由于为了得到 孪生靶非平衡磁控溅射镀膜设备制备了多层膜结构的 深黑色的膜层，生产时需通人大量含C气体在过反应 Ti—N．C深黑色硬质膜，并对两种方法得到的膜层性能 态进行镀膜，因此，柱状磁控溅射靶“中毒”快，镀膜工 进行了分析比较。 艺不稳定。 利用多弧离子镀工艺制备黑色硬质膜，工艺范围 1试验 宽¨]，但颜色不深，满足不了高档装饰镀市场需要。柱 1．1镀膜设备 弧离子镀的弧源是细长圆柱结构，利用一个柱弧源就 柱弧离子镀膜设备的镀膜室为立式圆桶形结构， 可以在比较大的范围内进行均匀镀膜H1。通过合适的 Ooomm×1300 尺寸西1 mm，镀膜室中心安装柱状磁控 磁场控制，柱弧源还可以在比较小的弧流下稳定工作。 mm×1050