电子空穴对单电子陷阱存储器的设计与分析 - 电子学报.PDF

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电子空穴对单电子陷阱存储器的设计与分析 - 电子学报

第 11 期 电  子   学   报 Vol . 28  No . 11  2000 年 11 月 ACTA ELECTRONICA SINICA Nov .  2000   电子空穴对单电子陷阱存储器的设计与分析 程子川 ,蒋建飞 ,蔡琪玉 (上海交通大学微电子技术研究所 ,上海 200030)   摘  要 :  本文论述了由 Ti/ TiOx/ Ti 介观隧道结阵列构成的电子空穴对耦合的单电子陷阱存储器 ,结合 目前扫描 ( ) 隧道显微镜 STM 进行纳米加工的特点 ,设计了该存储器的电路结构及其结构参数 ,计算出电路的电容矩阵 ,并用 Monte Carlo 法对电路特性进行了模拟. 结果表明 ,该存储器与其它单电子存储器有相同的存储特性 ,但具有较高的工 作温度及工作稳定性. 关键词 :  介观隧道结阵列 ; 单电子陷阱; 单电子晶体管静电探测计 中图分类号 :  TN302    文献标识码 :  A    文章编号 : (2000) De sign and Analy si s of Single Electronhole Trap Memory CHEN G Zichuan ,J IAN G Jianfei ,CAI Qiyu ( Microelectronics Research Center , Shanghai J iaotong University , Shanghai 200030 , China) Ab stract :  In this paper ,a single electronhole trap memory based on Nanometallic ( Ti) island and Ti/ TiOx/ Ti mesoscopic tunnel j unction is proposed. According to the Scanning Tunneling Microscope ( STM) Nanometer fabrication technology ,we design its structure and parameter and calculate its capacitance matrix. The characteristics of our circuit are simulated using Monte Carlo func tion . Our circuit has the similar character as other single electron memory. However it has higher operating temperature and higher sta bility. Key word s :  mesoscopic tunnel j unction array ;single electronic trap ;single electron transistor electrometer 1  引言 该存储器的结构, 给出了具体的结构参数, 并计算出模拟所需   库仑阻塞效应是单电子器件的一个基本特性 , 电荷只有 的电路电容矩阵, 最后我们对电路特性的模拟结果进行了讨 在其获得的能量大于静电能时才能穿过介观隧道结. 利用该

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