09-表面处理技术资料.ppt

1．化学气相沉积法 化学气相沉积是在高温下将炉内抽成真空或通入氢气，然后通入反应气体并在炉内产生化学反应，使工件表面形成覆层的方法，简称CVD法。 由于化学气相沉积反应温度高达1000℃以上，并需要通入大量氢气，操作不当易产生爆炸，而且工件易产生氢脆，排出的废气含有HCl有害气体，近年来发展了物理气相沉积法。 2. 物理气相沉积法 物理气相沉积是把金属蒸气离子化后在高压静电场中使离子加速并直接沉积于金属表面形成覆层的方法，简称PVD法。 它具有沉积温度低、沉积速度快、渗层成分和结构可控制、无公害等特点。 基本分类： 蒸发法(真空蒸镀) 溅射法 离子镀 块状材料 (靶材) 扩散、吸附、凝结成薄膜 物质输运 能量输运 能量 衬底 PVD的物理原理 原理：将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程。 （1）真空蒸发镀膜 优点： 操作方便，沉积参数易于控制； 制膜纯度高，可用于薄膜性质研究； 可监测镀膜，对薄膜生长过程和生长机理进行研究； 膜沉积速率快还可以多块同时蒸镀； 缺点： 沉积温度较高，膜与基片的结合强度不高。 溅射是指荷能粒子在电场作用下，高速轰击固体表面（靶），经过能量交换与转移，使固体原子（或分子）从表面射出的现象。 （2）真空溅射 辉光放电：在低气压（1～10Pa的稀薄气体中，在两个电极间加上电压时产生的一种气体放电现象。 定义: 在真空条件下，利用气体放电使被气化的物质（镀料）部分离子化，使这些带电的粒子轰击衬底表面，同时沉积于衬底上并形成薄膜的一种气相沉积法。 原理： （3）离子镀 特点： 成膜界面结合力强 （衬底表面清洁，伪镀层）； 薄膜致密度高，残余应力小； 薄膜沉积均匀； 溅射镀膜 离子镀膜 衬底在阳极， 镀料（靶材）在阴极 镀料接触衬底瞬间为原子或分子态 衬底在阴极， 镀料（蒸发源*）在阳极 镀料接触衬底瞬间为离子态 工作气体被电场击穿电离后，其荷电粒子（离子）在电场作用下飞向阴极的镀料靶材，将靶材的原子或分子击出。靶材的被击出的原子或分子沉积到衬底上。 镀料受热气化*。金属气体被导入衬底前的等离子区* * ，部分金属原子在等离子区内被电离成为离子态，金属离子在电场作用下飞向阴极的衬底，轰击衬底后沉积于其上。工作气体的离子对衬底有清洗作用。 * 镀料可以是工作气体， * * 高电压在两极间引起低气压放电而造成 9.2.4 热喷涂技术 在高温热源作用下，将金属、合金、金属陶瓷、陶瓷等材料熔化或部分熔化，并通过高速气流使其成为雾化微粒，喷向工件表面后构成喷涂层的方法称为热喷涂。 常用的热喷涂方法有： 电弧喷涂、火焰喷涂和等离子弧粉末喷涂。 5 ? 对被处理工件的形状、尺寸、材料等原则上没有限制(尺寸过小及小孔内壁的热喷涂工艺还有困难)。 ? 无论是金属、合金，还是陶瓷、玻璃、水泥、石膏、塑料、木材，甚至纸张，都是适用的基体材料。 ? 涂层材料也是多样的，金属、合金、陶瓷、复合材料都可选用。 根据需要选择不同的覆层材料，可以获得耐磨损、耐腐蚀、抗氧化、耐热等方面的一种或数种性能，也可以获得其它特殊性能的涂层。这些涂层能够满足各种尖端技术的特殊需要，也能使普通材料制成的零件获得特殊的表面性能，从而成倍地提高零件的使用寿命，或使报废零件得到再生。 热喷涂技术的特点和优点 热喷涂的应用 ① 防腐蚀:主要用于大型水闸钢闸门、造纸机烘缸、煤矿井下钢结构、高压输电铁塔、电视台天线、大型钢桥梁、化工厂大罐和管道的防腐喷涂。 ② 防磨损:通过喷涂修复已磨损的零件，或在零件易磨损部位预先喷涂上耐磨材料，如风机主轴、高炉风口、汽车曲轴、机床主轴、机床导轨、柴油机缸套、油田钻杆、农用机械刀片等。 ③ 特殊功能层:通过喷涂获得表层某些特殊性能，如耐高温、隔热、导电、绝缘、防幅射等，在航空航天和原子能等部门应用较多。 * * * 储液罐内壁喷涂尼龙 * * * * * * * 第9章 表面处理技术 表面处理技术是指改变零件的表面质量或表面状态，使其达到耐磨、耐蚀、美观和精度要求的工艺，包括电镀、喷涂、涂装、氧化等。 9.1 表面处理技术的分类与基础 一、分类 1、按作用原理分： 原子沉积：原子尺度 颗粒沉积：宏观尺度 整体覆盖：同时施加在表面