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411- 斗 lb 412— J6 Vo1.15,No.6 飞01. 15. No.6 红外与毫米1皮学报 第 l5 卷第 6 期 第l5卷第 6期 红 外 与毫 米波 学 报 1996年l2月 December,1996 1996 年 l2 月 J.Infrared Millim.Waves December .1996 J. Infrared Millim. Waves Hg - Cd Te 的扫描光致发光研究 x x l-Igl--xCd Te的扫描光致发光研究 1 常 勇 褚君浩、I唐文国 沈文忠 茅文英 汤定元 常重祷君浩飞唐文屋就文患茅文英萄主元 〔中国科学院上海技术物理研究新红外物理国家重点实验室,上海.20∞吕 (中 j E 磊 研究所红外物理国家重点实验室.上海,2ooo83) 酒辞里叶变换重工挎扫结圭致发竟 Ii 法研究T Hg.- ,Cd.Te 体草品样品,该7J法可直接得 /6 蔓用博里叶变换缸外扫描光致发光方法研究T Hg—cd T 体单品样品,该方法可直接得 到 HgCdTe 晶片生量分约二维平面分事.ji 可得到轻射复合在复告机锅中新占比重隐平岳王董事‘ 到HgCdTe晶片蛆分的二维平面分布.井可得到辐射复告在复合机制中所占比重的平面分布, ~要 以及晶体中非平赛最草鞋子寿命的耸布, 美鲁量调 光致发克.Hg._Âd,Te. 寿命. T N.l ó 4, 26 J起草 引言 !J472.3 斜阳军 Hg, _zCc:lzTe 光电器件,尤其是焦于图器件制造王艺的发展,付材料的检测手段提出了 Hg。…Cd Te光电器件.尤其是焦下面器件制造工艺的发展,耐材料的检测手段提出了 越来越高的要求,不但要求检测总体性质,而且对各微区豹性质及分布也要迅速准确地加以 越来越高的要求,不但要求检测总体性质,而且对各微区的性质及分布也要迅速准确地加以 评价.为此,已建立了多种有关的检测手段口-.]但这是主测量手段都必须在样品上制备电援, 评价.为此,已建立了多种有关的检测手段 ],但这些测量手段都必须在样品上制备电极, 这样就在一定程度上影响了这些技术的很广泛使用. 这样就在一定程度上影响了这些技术的很广泛使用. 尽管光致发光平面扫描技术因其方便易行、非破坏性和非接触注早已在其它半导体材 尽管光致发光平面扫描技术因其方便易行、非破坏性和非接触性早已在其它半导体材 料的性能撞测与工艺控制研究等方面得到了广泛的应用巳]但是对于Hg,_Xd,Te 来说.由 料的性能检测与工艺控制研究等方面得到了广泛的应用 ,但是对于Hg 一 CA e来说,由 于它的禁带宽度较窄,光生非平衡载流子辐射复合占的比重较小,而且,在中波红外以上区 于它的禁带宽度较窄,光生非平事每载流子辐射复合占的比重较小,而且,在中披红外

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